[发明专利]光波导器件、电子器件以及光波导器件的制造方法无效
申请号: | 201110049437.0 | 申请日: | 2011-02-28 |
公开(公告)号: | CN102207581A | 公开(公告)日: | 2011-10-05 |
发明(设计)人: | 青木重宪 | 申请(专利权)人: | 富士通株式会社 |
主分类号: | G02B6/125 | 分类号: | G02B6/125;G02B6/136 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 张浴月;刘文意 |
地址: | 日本国神奈*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 波导 器件 电子器件 以及 制造 方法 | ||
1.一种光波导器件,包括:
光波导布线,光波导在所述光波导布线中交叉;以及
中继部,布置在所述光波导的交叉部处,并且折射率高于所述光波导的核心处的折射率。
2.根据权利要求1所述的光波导器件,其中
所述光波导中的中继部与核心之间的边界形成为向所述核心的一侧凸起的曲线形状。
3.根据权利要求1所述的光波导器件,其中
所述中继部的中央部处的折射率高于所述中继部的边缘部处的折射率。
4.根据权利要求1所述的光波导器件,其中
所述光波导还包括覆件,该覆件覆盖所述核心的外周并且折射率低于所述核心的折射率;以及
所述核心、所述覆件以及所述中继部由相同的材料形成。
5.一种光波导器件,包括:
光波导,具有使光输出的输出表面;以及
中继部,布置在所述输出表面的一侧上的端部处,并且折射率高于所述光波导的核心处的折射率。
6.根据权利要求5所述的光波导器件,其中
所述光波导中的中继部与核心之间的边界形成为向所述核心的一侧凸起的曲线形状。
7.根据权利要求5所述的光波导器件,其中
所述中继部的中央部处的折射率高于所述中继部的边缘部处的折射率。
8.根据权利要求5所述的光波导器件,其中
从所述输出表面到所述中继部的距离等于或小于所述中继部的宽度。
9.根据权利要求5所述的光波导器件,其中:
所述光波导还包括覆件,该覆件覆盖所述核心的外周并且折射率低于所述核心的折射率;以及
所述核心、所述覆件以及所述中继部由相同的材料形成。
10.一种具有光波导器件的电子器件,其中
所述光波导器件包括:
光波导布线,光波导在所述光波导布线中交叉;以及
中继部,布置在所述光波导的交叉部处,并且折射率高于所述光波导的核心处的折射率。
11.一种具有光波导器件的电子器件,其中
所述光波导器件包括:
光波导,具有使光输出的输出表面;以及
中继部,布置在所述输出表面的一侧上的端部处,并且折射率高于所述光波导的核心处的折射率。
12.一种光波导器件的制造方法,包括:
形成折射率通过曝光而改变的感光材料层;以及
通过曝光所述感光材料层,形成光波导布线和中继部,其中,所述光波导在所述光波导布线中交叉,所述中继部在所述光波导的交叉部处,所述中继部的折射率高于所述光波导的核心处的折射率。
13.根据权利要求12所述的光波导器件的制造方法,其中
通过使用光透过率局部不同的掩模曝光所述感光材料层,从而形成所述光波导布线与所述中继部。
14.一种光波导器件的制造方法,包括:
形成折射率通过曝光而改变的感光材料层;以及
通过曝光所述感光材料层,形成光波导和中继部,所述光波导具有使光输出的输出表面,所述中继部在所述光波导的输出表面的一侧上的端部处,所述中继部的折射率高于所述光波导的核心处的折射率。
15.根据权利要求14所述的光波导器件的制造方法,其中
通过使用光透过率局部不同的掩模曝光所述感光材料层,从而形成所述光波导与所述中继部。
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