[发明专利]等离子体显示器面板及其制造方法无效
申请号: | 201110049609.4 | 申请日: | 2011-03-02 |
公开(公告)号: | CN102194629A | 公开(公告)日: | 2011-09-21 |
发明(设计)人: | 矢野孝伸;梶山博司 | 申请(专利权)人: | 株式会社爱发科;国立大学法人广岛大学 |
主分类号: | H01J17/49 | 分类号: | H01J17/49;H01J17/04;H01J9/20 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 毛利群;王忠忠 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子体 显示器 面板 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及等离子体显示器的技术领域,特别涉及使放电电压降低,消除放电延迟的技术。
背景技术
历来,PDP(Plasma Display Panel,等离子体显示器面板)在显示装置的领域被广泛使用,近年来,要求大画面化、高品质化,且低价格的PDP。
通常,在PDP中,将在玻璃基板上形成有维持电极及扫描电极的前面板、和在玻璃基板上形成有寻址电极(address electrode)的背面板贴合构成的3电极表面放电型成为主流。
在前面板和背面板之间封入有放电气体,当在扫描电极和寻址电极之间施加电压使放电产生,在扫描电极和维持电极之间施加维持电压使封入的放电气体等离子体化时,从等离子体放射紫外线,当向荧光体照射时,荧光体激发放出可见光。
在维持电极上和扫描电极上形成有电介质膜,进而在其上形成有用于保护电介质的保护膜。通常,该保护膜使用MgO。
当为了维持放电在扫描电极和维持电极施加交流电压时,通过放电气体的等离子体化产生的阳离子向扫描电极侧及维持电极侧入射,但扫描电极及维持电极和这些电极上的电介质膜通过保护膜被保护而免受阳离子的影响。
已知PDP的放电时的电压(放电电压)依赖于保护膜的二次电子发射系数,保护膜的二次电子发射系数越大(越是功函数小容易放出电子),放电电压越低电压化。
作为二次电子发射系数大、放电电压低的材料,已知CaO、SrO、BaO及其混合物(参照专利文献:日本特开2002-231129号公报)。但是这些材料对H2O、CO、CO2等的杂质气体极有活性,容易和这些杂质气体反应,形成氢氧化物、碳酸盐。
因此,产生老化(aging)工程变得非常长,或者即使经过老化放电电压也不降低的问题。
因此,提出了一种通过连续真空装置将这些材料成膜,始终不暴露于大气而进行面板化的工序(参照专利文献:日本特开2000-156160号公报)。报告了根据该方法,通过在成膜后始终不暴露于大气中而在真空中密封,能够最小限度抑制H2O、CO2等向保护膜表面的的吸附,即使不进行活性化工序,也能大大缩短老化时间。
此外,报告了作为使用连续真空装置制作的将CaO、SrO、BaO等材料作为保护膜而使用的PDP的特性,与MgO相比放电电压降低,通过提高Xe分压能够获得高发光效率。进而,还一起报告了放电延迟也与使用MgO保护膜的情况是相同程度。
可是,近年来PDP的高精细化、高速驱动化被认为是必要的,很明显在只使用CaO、SrO、BaO、它们的混合膜的情况下是不充分的。
在PDP的图像显示中使用将1个场的影像分割成多个子场(S.F.)的灰度(gradation)表现方式(例如场内时间分割显示方式)。
在时间分割显示方式的重要的研究课题中,可列举“放电延迟”的防止/抑制。在此,“放电延迟”指的是在缩窄驱动脉冲的宽度进行高速驱动时,从脉冲的上升沿延迟进行放电的现象。当“放电延迟”变得显著时,在施加的脉冲宽度内放电结束的概率变低,不能向本来应当点亮的单元进行写入等,发生点亮不良。
在高精细的单元构造中,放电延迟的问题在进行高速驱动时有变得特别明显化的担忧,期待紧急的对策。
“放电延迟”的原因主要被认为是起因于保护层的特性。因此,现在尝试在电介质层的上方直接、或者隔着以薄膜法制作的MgO膜,层状地配置以气相氧化法制作的MgO的单晶微粒子,改善保护层表面的放电特性(参照专利文献1,2)。根据该专利文献1,2的方法,针对低温时的放电延迟降低能期待一定的改善。
另一方面,也尝试在MgO添加Fe、Cr、V等、Si、Al等、Sc等的元素作为掺杂剂,通过该掺杂剂改善保护层的放电特性(参照专利文献3、4、5)。
前者的涂敷单晶微粒子的方法在将CaO、SrO、BaO、其混合物作为保护膜的等离子体显示器面板中,涂敷氛围仅限于露点低的惰性气体中或者真空中,涂敷方法或者散布方法也被限制,因此非常困难。
由此在CaO、SrO、BaO、其混合膜的情况下,认为后者的将某个元素作为掺杂剂进行添加的方法是容易的。但是,迄今为止还没有报告像这样的能够同时实现放电电压的低电压化和放电延迟的缩短的蒸发材料、薄膜。
专利文献
专利文献1:日本特开2006-059779号公报;
专利文献2:日本特开2006-173018号公报;
专利文献3:日本特开平8-236028号公报;
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