[发明专利]液体喷射头、液体喷射装置以及压电元件有效
| 申请号： | 201110050726.2 | 申请日： | 2011-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN102189795A | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | 滨田泰彰 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | B41J2/045 | 分类号： | B41J2/045;H01L41/083 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 苗堃;金世煜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 液体 喷射 装置 以及 压电 元件 | ||
【权利要求书】：
1.一种液体喷射头，其特征在于，具有压电元件，所述压电元件具备压电体层和设置于所述压电体层的电极，其中，
所述压电体层由含有含铁酸锰酸铋和钛酸钡的钙钛矿型化合物的压电材料形成，膜厚在3μm以下，在110面优先取向，并且，来自所述110面的X射线衍射峰位置2θ为31.80°～32.00°。
2.如权利要求1所述的液体喷射头，其特征在于，所述压电体层还含有SiO2。
3.如权利要求2所述的液体喷射头，其特征在于，所述压电体层相对于所述钙钛矿型化合物含有0.5摩尔％～5摩尔％的SiO2。
4.一种液体喷射装置，其特征在于，具备权利要求1至3中任一项所述的液体喷射头。
5.一种压电元件，其特征在于，具备压电体层和设置于所述压电体层的电极，其中，
所述压电体层由含有含铁酸锰酸铋和钛酸钡钙钛矿型化合物的压电材料形成，膜厚在3μm以下，在110面优先取向，并且，来自所述110面的X射线衍射峰位置20为31.80°～32.00°。
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