[发明专利]镀膜装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种镀膜装置。

背景技术

现有的镀膜设备为了镀膜均匀，通常将待镀工件悬挂在一旋转挂具上，该旋转挂具固定在一转盘上，并通过传动机构与转盘连接。在镀膜机镀膜时，该旋转挂具与转盘一同转动，同时该旋转挂具绕其自身中心轴自转，以提高镀膜的均匀性。

然而，由于工件在旋转挂具的轴向方向上具有一定高度，所以工件的上下侧的膜层厚度仍然有一定差异，从而产生工件膜层厚度不均匀的问题。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种用于提高膜层均匀性的镀膜装置。

一种镀膜装置，其包括一个腔体、一个转盘、至少一个工件挂具及至少一个靶体，所述转盘、工件挂具及所述靶体设于腔体内，所述工件挂具包括一个定位轴、两个偏心轮、一个保持架、两个往复轴及一个承载板，所述定位轴及保持架设置于所述转盘上，且彼此能够相对转动，所述两个偏心轮的轴心沿所述定位轴的轴向固定于所述定位轴上，且偏心方向相反，所述各偏心轮的边缘设有一环形滑槽，所述保持架收容所述偏心轮及所述定位轴，所述定位轴固定连接于所述转盘上，所述保持架随所述转盘一起转动且能够沿保持架自身中心轴转动，所述两个往复轴分别对应所述两个偏心轮滑动设置于所述保持架上，所述各往复轴一端可滑动地卡合于所述偏心轮的环形滑槽内，另一端转动连接于所述承载板一端部，当所述保持架相对所述定位轴转动时，所述两个偏心轮分别驱动所述两个往复轴沿所述定位轴的径向作往复运动，且所述两个往复轴的运动方向相反。

本发明提供的镀膜装置通过往复轴带动所述承载板的两端部交替前后运动，将待镀工件的上部与下部交替靠近靶体，从而提高待镀工件的上部与下部的镀膜均匀性。

附图说明

图1为本发明的镀膜装置的结构示意图。

图2为图1所示的镀膜装置的示意图。

主要元件符号说明

镀膜装置    100

腔体        10

转盘        20

靶体        30

工件挂具    40

定位轴      410

偏心轮      420

第一偏心轮  421

第二偏心轮  422

环形滑槽    423

保持架      430

第一环形架  431

第二环形架  432

连接件      433

轴孔        434

往复轴      440

滑动部      441

枢接部      442

轴体        443

承载板      450

承载板端部      450a

底面            451

连接部          452

第一齿轮        50

固定轴          51

第二齿轮        460

具体实施方式

下面将结合附图，对本发明作进一步的详细说明。

请参阅图1及图2，本发明提供的镀膜装置100。该镀膜装置100包括一个腔体10、一个转盘20、多个靶体30及多个工件挂具40。

该腔体10用以提供一真空镀膜环境。该腔体10与气体入口与气体出口(图中均未示出)相连通。该气体入口用于向腔体10内导入放电气体，例如氩气、氮气等。该气体出口用于与真空泵(图未示)相连以使腔体10获得初始的真空度以及在溅射过程中保持一定的真空度。该腔体10还可设置于箱体(图未示)内，以增加气密性。

所述转盘20位于所述腔体10的底部。该转盘20可以为圆盘形、圆环形，也可以为正多边形并可围绕其几何中心进行旋转。本实施方式中，转盘20为圆环形的转盘。

所述靶体30固定于所述腔体10内，其在镀膜过程中通常充当阴极，用于提供形成薄膜的材料。每一靶体30为固定于腔体10中的单个片状靶体，该多个靶体30设置于工件挂具40周围，包围所述工件挂具40。

该工件挂具40包括定位轴410、多对偏心轮420、保持架430、多对往复轴440及承载板450。

本实施方式中，所述定位轴410固定连接于所述转盘20上，所述定位轴410与所述转盘20的转动轴平行。