[发明专利]形成石墨烯氧化物图案和石墨烯图案的方法无效

专利信息
申请号: 201110052417.9 申请日: 2011-03-04
公开(公告)号: CN102653190A 公开(公告)日: 2012-09-05
发明(设计)人: 韩宝航;王涛;吴冲;周鼎;承倩怡;孙树清 申请(专利权)人: 国家纳米科学中心
主分类号: B41M1/12 分类号: B41M1/12
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 王崇;王凤桐
地址: 100190 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 形成 石墨 氧化物 图案 方法
【权利要求书】:

1.一种形成石墨烯氧化物图案的方法,该方法按照以下(A)和(B)两种方式之一进行:

(A)将石墨烯氧化物溶液与图案化聚二甲氧基硅烷印章接触,干燥;然后将干燥后的图案化聚二甲氧基硅烷印章与基底在外力为0-5N的条件下接触1-500min,移开印章,从而在基底上形成石墨烯氧化物图案;

(B)将图案化聚二甲氧基硅烷印章与连接剂接触,然后与基底在外力为0-5N的条件下接触1-500min,移开印章,得到接触后的基底;将接触后的基底与石墨烯氧化物溶液接触,干燥,从而在基底上形成石墨烯氧化物图案;其中,所述连接剂为3-氨丙基三乙氧基硅烷的乙醇和/或水溶液、聚醚酰亚胺水溶液、巯基胺水溶液、3-氨基丙烷-1-磷酸水溶液、2-氨基乙烷-1-磷酸水和/或乙醇溶液以及4-氨基丁烷-1-磷酸水和/或乙醇溶液中的一种或多种。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,在方式(B)中,所述将图案化聚二甲氧基硅烷印章与连接剂接触的方式为将连接剂滴加在图案化聚二甲氧基硅烷印章表面,相对于每平方米的印章表面,连接剂的用量为500-5000mL,滴加后的接触时间为0.5-10min。

3.根据权利要求1所述的方法,其中,在方式(A)中,该方法还包括:在将干燥后的图案化聚二甲氧基硅烷印章与基底在外力为0-5N的条件下接触前,将所述基底与所述连接剂接触。

4.根据权利要求3所述的方法,其中,所述将基底与连接剂接触的方式为将基底浸入连接剂中,浸入时间为0.5-5000min。

5.根据权利要求1-4中任意一项所述的方法,其中,所述连接剂的质量浓度为1-30%,优选为1-5%。

6.根据权利要求1所述的方法,其中,在方式(B)中,所述将石墨烯氧化物溶液与接触后的基底接触的方式为将接触后的基底浸入石墨烯氧化物溶液中,浸入时间为10-90min;在方式(A)中,所述将石墨烯氧化物溶液与图案化聚二甲氧基硅烷印章表面接触的方式为将石墨烯氧化物溶液滴加在图案化聚二甲氧基硅烷印章表面,相对于每平方米的印章表面,石墨烯氧化物溶液的用量为500-5000mL,优选为1000-5000mL;滴加后的接触时间为1-500min,优选为1-120min。

7.根据权利要求1或6所述的方法,其中,在方式(A)或方式(B)中,所述石墨烯氧化物溶液的浓度为0.001-5mg/mL,优选为0.01-1.5mg/mL,所述石墨烯氧化物溶液为石墨烯氧化物的水溶液、石墨烯氧化物的甲醇溶液、石墨烯氧化物的乙醇溶液、石墨烯氧化物的乙二醇溶液、石墨烯氧化物的N-甲基吡咯烷酮溶液、石墨烯氧化物的N,N’-二甲基甲酰胺溶液和石墨烯氧化物的四氢呋喃溶液中的一种或多种。

8.根据权利要求1所述的方法,其中,在方式(A)或方式(B)中,所述外力为0.08-1.2N。

9.根据权利要求1所述的方法,其中,在方式(A)或方式(B)中,所述基底为玻璃片、硅片、金片和钛-二氧化钛复合片材中的一种或多种。

10.一种形成石墨烯图案的方法,该方法包括:将氧化石墨烯图案在还原性气氛中,800-1000℃下加热15-60分钟,其特征在于,所述石墨烯氧化物图案的形成方法为权利要求1-9中任意一项所述的方法。

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