[发明专利]亲水性单体、亲水性光阻剂组成物及光阻图形形成方法

权利要求书

1.一种式I所示的亲水性单体，其特征在于，             

R₁为n个聚氧乙烯基，或-(OC₂H₂NHC₂H₂)_m；

R₂为氢或甲烷基；

n是1到20的自然数；以及

m是1到20的自然数。

2.如权利要求1所述的亲水性单体，其特征在于，n是1到15的自然数，m是1到17的自然数。

3.一种亲水性光阻剂组成物，其特征在于，包含如权利要求1中所述的亲水性单体。

4.如权利要求3所述的亲水性光阻剂组成物，其特征在于，更包含一式II所示的亲水性树脂：

其中R₃代表-CO(CH₂)_p，-CO(C₂H₄O)_qCH₂，或-C₂H_2x；p为1到20的自然数，q为1到20的自然数，x为1到5的自然数；R₄代表-C_yH_2yCOOH、-C_zH_2zOH、CH₂=CHCOOCH₂CH₂；y代表为1到20的自然数，Z为1到5的自然数。

5.如权利要求4所述的亲水性光阻剂组成物，其特征在于，该亲水性树脂为p是1到15的自然数，q是2到17的自然数，x是1到5的自然数，而y是1到15的自然数，Z是1到6的自然数。

6.如权利要求3所述的亲水性光阻剂组成物，其特征在于，更包含感光起始剂，添加物，以及溶剂，其中该添加物是用以控制调整光阻曝光时的光化学特性。

7.如权利要求6所述的亲水性光阻剂组成物，其特征在于，该亲水性树脂的重量百分比为15%到25%，该亲水性单体的重量百分比为10%到20%。

8.如权利要求7所述的亲水性光阻剂组成物，其特征在于，该感光起始剂的重量百分比为0.5%到3%，该添加物的重量百分比为2%到3%，以及该溶剂的重量百分比为55%到75%。

9.如权利要求7所述的亲水性光阻剂组成物，其特征在于，该感光起始剂为2-苄基-2-二甲氨基-1-(4-吗啉苯基)-丁酮-1，该添加物为美卡氟库R-08，该溶剂为丙二醇甲醚和丙二醇甲醚醋酸酯的混合物。

10.如权利要求9所述的亲水性光阻剂组成物，其特征在于，该亲水性树脂的重量百分比为16%，该亲水性单体的重量百分比为17%，该感光起始剂的重量百分比为2.2%，该添加物的重量百分比为2%，以及该溶剂的重量百分比为62.8%。

11.一种光阻图形形成的方法，其特征在于，步骤包含：

涂布如权利要求3到10所述的任一亲水性光阻剂组成物于基材的表面，形成一光阻层；

对该光阻层进行第一次加热烘烤；

使该光阻层进行曝光；

利用纯水对该光阻层显影洗净；以及

对该光阻层进行第二次加热烘烤。

12.如权利要求11所述的光阻图形形成的方法，其特征在于，是以旋转涂布该亲水性光阻剂组成物于基材的表面。

13.如权利要求12所述的光阻图形形成的方法，其特征在于，是以每分钟400转到1000转的转速进行该旋转涂布。

14.如权利要求12所述的光阻图形形成的方法，其特征在于，第一次加热烘烤该光阻层的温度为摄氏90度到120度；第二次加热烘烤该光阻层的温度为摄氏230度，并持续30分钟。

15.如权利要求12所述的光阻图形形成的方法，其特征在于，该曝光的照射光能量为50毫焦耳到200毫焦耳。

16.如权利要求12所述的光阻图形形成的方法，其特征在于，还包含在该第一次加热烘烤前，实施真空干燥步骤。

17.如权利要求16所述的光阻图形形成的方法，其特征在于，该真空干燥步骤是于压力为2 托环境下进行。