[发明专利]用于静态偏置预金属化不导电衬底的方法和装置

权利要求书

1.一种用于在真空处理室内对预金属化的不导电衬底进行静态偏置的装置，所述处理室包括用于提供偏压的偏压馈通，所述装置包括：

衬底保持器，其适于保持所述衬底；

升降机构，其与所述衬底保持器配合，以提供所述衬底保持器按照第一方向至处理室内的接触位置和按照第二方向至不接触位置的运动；

导电的弹簧加压顺应机构，其安装在所述处理室内的固定位置，且在所述衬底保持器处于接触位置时与所述衬底电配合，所述弹簧加压顺应机构连接至所述偏压馈通，用于在所述衬底保持器处于接触位置时对所述衬底施加偏压。

2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述衬底包括玻璃衬底。

3.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述衬底包括在所述衬底表面上形成的含铬合金。

4.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述弹簧加压顺应机构包括：

偏置板，其安装在所述真空处理室内的固定位置处；以及

至少一个导电的弹簧加压触点，其附连至所述偏置板，并被设置用于在所述衬底保持器处于接触位置时与所述预金属化的不导电衬底配合。

5.如权利要求4所述的装置，其特征在于，所述弹簧加压触点包括片簧。

6.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述弹簧加压顺应机构包括：

偏置板，其安装在所述真空处理室的固定位置处；以及

多个导电的弹簧加压触点，其附连至所述偏置板，每个弹簧加压触点被设置用于在所述衬底保持器处于接触位置时与所述预金属化的不导电衬底配合。

7.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述弹簧加压顺应机构包括：

导电的上径向接触器，其包括推杆；

套筒，其中安装有弹簧，且被设置成接纳推杆，以当所述衬底保持器处于接触位置时使所述弹簧迫使所述上径向接触器与所述预金属化的不导电衬底电接触。

8.一种用于在真空处理室内通过衬底保持器对预金属化的不导电衬底进行静态偏置的方法，所述处理室包括用于提供偏压的偏压馈通，所述方法包括：

在所述处理室内的固定位置处提供导电的弹簧加压顺应机构，所述弹簧加压的顺应机构连接至所述偏压馈通；以及

将所述衬底保持器移至所述处理室内的接触位置，以使所述弹簧加压的顺应机构与所述衬底电配合以将偏压施加至所述衬底。

9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述弹簧加压顺应机构包括：

偏置板，其安装在所述真空处理室内的固定位置处；以及

至少一个导电的弹簧加压触点，其附连至所述偏置板，并设置用于在所述衬底保持器处于接触位置时与所述预金属化的不导电衬底配合。

10.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述弹簧加压顺应机构包括：

导电的上径向接触器，其包括推杆；

套筒，其中安装有弹簧，且被设置成接纳推杆，以当所述衬底保持器处于接触位置时使所述弹簧迫使所述上径向接触器与所述预金属化的不导电衬底电接触。

11.如权利要求10所述的方法，其特征在于，所述上径向接触器的弧半径与所述衬底的弧半径基本相等。

12.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述衬底包括玻璃衬底。