[发明专利]一种低辐射镀膜玻璃有效
| 申请号： | 201110056422.7 | 申请日： | 2011-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN102126833A | 公开（公告）日： | 2011-07-20 |
| 发明（设计）人： | 王树立 | 申请（专利权）人： | 黄骅荣达玻璃有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 061100*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 辐射 镀膜 玻璃 | ||
【权利要求书】：
1.一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于，由内向外依次包括玻璃(1)、第一介质层(21)、银层(3)、第一屏蔽层(41)、第二介质层(22)、第二屏蔽层(42)、第三屏蔽层(43)和第三介质层(23)。
2.如权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一介质层(21)、第二介质层(22)和第三介质层(23)均为氧化锡层。
3.如权利要求2所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一屏蔽层(41)和所述第二屏蔽层(42)均为镍洛合金层，所述第三屏蔽层(43)为不锈钢层。
4.如权利要求2所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一介质层(21)、第二介质层(22)和第三介质层(23)的厚度为100nm～300nm。
5.如权利要求3所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一屏蔽层(41)和所述第二屏蔽层(42)的厚度为5nm～20nm。
6.如权利要求3所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第三屏蔽层(43)的厚度为3nm～20nm。
7.如权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述银层(3)的厚度为9nm～20nm。
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