[发明专利]具有超微细凹凸表面结构的成型物的制造方法无效

专利信息
申请号: 201110058142.X 申请日: 2011-03-10
公开(公告)号: CN102189879A 公开(公告)日: 2011-09-21
发明(设计)人: 村濑英寿;佐佐木良成;松井俊辅;阿苏幸成 申请(专利权)人: 索尼公司
主分类号: B44C1/22 分类号: B44C1/22
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 余刚;吴孟秋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 具有 微细 凹凸 表面 结构 成型 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种具有超微细凹凸表面结构的成型物的制造方法,其中,对于每一次发射使激光照射区域相对于加工对象物的加工面连续移动,同时将激光束重复照射到所述加工对象物的加工面上,所述制造方法包括以下步骤:

设定用于对所述加工对象物的加工面进行预定深度的加工的激光束的能量密度;

设定发射数,通过所述发射数,在将所述能量密度的激光束重复照射到所述加工面上时使所需的微细形状形成在所述加工面上;

计算所述激光照射区域相对于所述加工面的移动速度,以用于将所设定的所述发射数的激光照射到所述加工面上;以及

照射所设定的所述能量密度的激光束,同时使所述加工面相对于所述激光照射区域以所计算的所述移动速度移动,从而在形成有所述微细形状的加工面上形成由所述激光照射的加工痕迹形成的超微细凹凸结构。

2.根据权利要求1所述的具有超微细凹凸表面结构的成型物的制造方法,其中,所述加工痕迹是基于用于确定所述激光照射区域的、设置在掩模上的开口的边缘形状而形成的。

3.根据权利要求2所述的具有超微细凹凸表面结构的成型物的制造方法,其中,所述加工痕迹的图案由所述激光照射区域相对于所述加工面的移动方向来控制,所述激光照射区域由穿过所述掩模的开口的激光束形成。

4.根据权利要求3所述的具有超微细凹凸表面结构的成型物的制造方法,其中,使用具有在宽度方向上排列的多个开口且所述多个开口的间距相同但形状彼此不同的第一掩模和第二掩模,从而通过所述第一掩模和所述第二掩模将激光束照射到所述加工对象物上,同时使所述激光束的激光照射区域沿所述宽度方向的垂直方向移动,并且用所述第一掩模和所述第二掩模在相同位置对所述加工对象物进行所述激光束的照射和所述激光照射区域的移动。

5.根据权利要求4所述的具有超微细凹凸表面结构的成型物的制造方法,其中,使用所述第一掩模和所述第二掩模,从而在所述加工对象物上的两个彼此垂直的方向上进行所述光照射区域的移动。

6.根据权利要求4所述的具有超微细凹凸表面结构的成型物的制造方法,其中,使用所述第一掩模和所述第二掩模,从而在所述加工对象物上的同一方向上进行所述光照射区域的移动。

7.根据权利要求4至6中的任一项所述的具有超微细凹凸表面结构的成型物的制造方法,其中,所述加工面上的加工痕迹的蚀刻深度为数百纳米。

8.根据权利要求1所述的具有超微细凹凸表面结构的成型物的制造方法,其中,所述加工痕迹基于与待照射的激光束的光束直径相对应的形状而形成。

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