[发明专利]光刻设备和方法

权利要求书

1.一种光刻投影设备，包括：

衬底台，配置成支撑位于衬底支撑区域上的衬底，所述衬底台包括邻近衬底支撑区域的中心部分的多个加热器和/或温度传感器，所述多个加热器和/或温度传感器是细长的。

2.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述多个加热器和/或传感器沿基本上平行的方向是细长的。

3.根据权利要求1或2所述的光刻设备，其中，所述多个加热器和/或传感器从一个边缘经过所述衬底支撑区域延伸到相对的边缘。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的光刻设备，其中，所述多个加热器沿第一方向是细长的，使得在衬底的成像期间给定的加热器和/温度传感器在投影系统下面的时间长度比所述加热器和/传感器被取向成其细长方向垂直于第一方向的情况短。

5.根据权利要求4所述的光刻设备，其中，所述第一方向使得时间的长度被最小化。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的光刻设备，其中，所述多个加热器和/或温度传感器包括薄膜。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的光刻设备，还包括突节板以支撑衬底，并且其中所述多个加热器和/或温度传感器形成在突节板的表面上。

8.根据权利要求7所述的光刻设备，其中，所述多个加热器和/或温度传感器形成在突节板上且在突节之间。

9.根据权利要求7或8所述的光刻设备，其中，所述多个加热器和/或温度传感器定位在突节板的顶部和/或底部上。

10.一种光刻设备，包括：

衬底台，配置成支撑位于衬底支撑区域上的衬底，并且包括加热器和/或温度传感器，所述加热器和/或温度传感器从一个边缘经过所述衬底支撑区域延伸到相对的边缘。