[发明专利]显示器的修补方法及其修补后的结构有效
| 申请号： | 201110060780.5 | 申请日： | 2011-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN102116948A | 公开（公告）日： | 2011-07-06 |
| 发明（设计）人： | 梁嘉杉;张一凡;洪彬哲 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/13 | 分类号： | G02F1/13;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 梁挥;祁建国 |
| 地址： | 中国台湾新竹科*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 显示器 修补 方法 及其 结构 | ||
1.一种显示器的修补方法，包括：
提供一显示器，其包括：
一显示面板；以及
至少一光学膜，位于该显示面板的至少一外表面，其中该光学膜具有一上表层、一下表层以及位于该上表层以及该下表层之间的一中间层，
其中该光学膜具有一缺陷；以及
进行一激光修补程序，以使该光学膜的对应该缺陷处碳化成一黑点，其中该激光修补程序是在该光学膜的该上表层中形成该黑点。
2.如权利要求1所述的显示器的修补方法，其特征在于：该激光修补程序的波长为400～800纳米。
3.如权利要求1所述的显示器的修补方法，其特征在于：该激光修补程序的一激光脉冲时间为≤500飞秒。
4.如权利要求1所述的显示器的修补方法，其特征在于：该激光修补程序的一激光脉冲能量在1MHz的频率下，脉冲能量为≥1.0微焦耳。
5.如权利要求1所述的显示器的修补方法，其特征在于：该光学膜的该上表层以及该下表层的材质包括三乙酰纤维素。
6.如权利要求1所述的显示器的修补方法，其特征在于：该光学膜的该中间层包括聚乙烯醇。
7.如权利要求1所述的显示器的修补方法，其特征在于：该光学膜的总厚度为100～500微米。
8.如权利要求1所述的显示器的修补方法，其特征在于：该激光修补程序是在该光学膜的1～100微米处进行修补。
9.如权利要求1所述的显示器的修补方法，其特征在于：该显示器进一步包括至少一第一光学膜，位于该光学膜的该上表层、该下表层或是该上表层和下表层上均有该第一光学膜。
10.如权利要求1所述的显示器的修补方法，其特征在于：该缺陷的尺寸为10～1000微米。
11.如权利要求1所述的显示器的修补方法，其特征在于：该光学膜为偏光片。
12.一种修补后的显示器结构，包括：
一显示面板；以及至少一光学膜，位于该显示面板的至少一外表面上，其中该光学膜具有一上表层、一下表层以及位于该上表层以及该下表层之间的一中间层，且该光学膜的该上表层中具有一碳化黑点。
13.如权利要求12所述的修补后的显示器结构，其特征在于：该光学膜的该上表层以及该下表层的材质包括三乙酰纤维素。
14.如权利要求12所述的修补后的显示器结构，其特征在于：该光学膜的该中间层包括聚乙烯醇。
15.如权利要求12所述的修补后的显示器结构，其特征在于：该光学膜的总厚度为100～500微米。
16.如权利要求12所述的修补后的显示器结构，其特征在于：该碳化黑点是位于该光学膜的1～100微米深处。
17.如权利要求12所述的修补后的显示器结构，其特征在于：进一步包括至少一第一光学膜，位于该光学膜的该上表层、该下表层或是该上表层和下表层上均有该第一光学膜。
18.如权利要求12所述的修补后的显示器结构，其特征在于：该碳化黑点的尺寸为10～1000微米。
19.如权利要求12所述的修补后的显示器结构，其特征在于：该光学膜为偏光片。
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