[发明专利]滤光器的制造方法、分析设备及光设备

说明书

技术领域

本发明涉及滤光器的制造方法、分析设备及光设备。

背景技术

已提出过，将2个基体不管其材质如何都不使用粘合剂或固体接合就能以较高的尺寸精度牢固地且在低温下高效地接合的方法(专利文献1)。利用该方法，通过活化能使分别设于2个基体的接合膜活化，使接合膜彼此接合。

该接合方法可以用于多种用途，其中之一就是使透过波长可变的干涉滤波器(专利文献2)。如专利文献2的图1所示，该干涉滤波器具备保持为相互平行的一对基板、和在这一对基板上相互对置且以具有一定间隔的间隙的方式形成的一对反射膜。入射到一对反射膜之间的光因与法布里-珀罗干涉仪相同的原理而被多重反射，特定波段以外的光由于干涉而被抵消，仅有特定波段的光发生透射。通过使一对反射膜间的间隙可变，该干涉滤波器起到带通滤波器的作用，被称为标准具。

该一对反射膜可以由例如专利文献2所示的电介质多层膜、高反射率有保证的金属膜形成。

为了制造专利文献2、3的干涉滤波器，期待将一对基板利用专利文献1的技术进行接合。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利第4337935号公报

专利文献2：日本特开平11-142752号公报

专利文献3：日本特开2009-134028号公报

发明内容

另一方面，专利文献1的接合方法是用臭氧、紫外线使接合膜活化而接合的。该接合膜的活化工序中，已明确了由金属或电介质多层膜形成的一对反射膜受到损害而发生变质或恶化，从而反射率可能会降低。

因此，在本发明的若干方式中，提供一种在对接合膜赋予活化能时能抑制接合膜以外的膜体因臭氧或紫外线发生变质或恶化的情况的滤光器的制造方法、分析设备及光设备。

(1)本发明的一个方式所涉及的滤光器的制造方法，其特征在于，包括：准备第1基板的工序，所述第1基板具有第1反射膜、和位于所述第1反射膜周围的第1接合区域；在所述第1反射膜形成第1阻隔膜，并在所述第1接合区域形成第1接合膜的工序；准备第2基板的工序，所述第2基板具有第2反射膜、和位于所述第2反射膜周围的第2接合区域；在所述第2反射膜形成第2阻隔膜，并在所述第2接合区域形成第2接合膜的工序；隔着第1掩模部件，向所述第1接合膜照射臭氧或紫外线的第1照射工序；隔着第2掩模部件，向所述第2接合膜照射臭氧或紫外线的第2照射工序；和接合所述第1接合膜与所述第2接合膜而使所述第1基板与所述第2基板粘贴的工序；在所述第1照射工序中，第1掩模部件在所述第1接合区域的上方具有第1开口部，所述第1掩模部件的一部分位于所述第1反射膜的上方。

根据本发明的一个方式，在第1照射工序中，包括第1掩模部件在第1接合区域的上方具有第1开口部，第1掩模部件的一部分位于第1反射膜的上方。另外，包括第1反射膜形成有第1阻隔膜。

由此，可以抑制臭氧或紫外线照射第1反射膜。从而，可以抑制第1反射膜的变质或恶化。

进而，利用第1掩模部件还可以抑制臭氧或紫外线对第1阻隔膜的照射。由此，可以抑制第1阻隔膜活化。其结果，在粘贴第1基板与第2基板的工序中，可以抑制第1阻隔膜与第2阻隔膜粘贴。

(2)在本发明的一个方式中，其特征在于，在所述第2照射工序中，所述第2掩模部件在所述第2接合区域的上方具有第2开口部，所述第2掩模部件的一部分位于所述第2反射膜的上方。

由此，可以抑制臭氧或紫外线对第2反射膜的照射。从而，可以抑制第2反射膜的变质或恶化。

进而，利用第2掩模部件，还可以抑制臭氧或紫外线对第2阻隔膜的照射。由此，可以抑制第2阻隔膜活化。其结果，在第1基板与第2基板的粘贴工序中，可以抑制第2阻隔膜与第1阻隔膜粘贴。

(3)在本发明的一个方式中，其特征在于，所述第1阻隔膜与所述第1接合膜由同一工序形成，所述第2阻隔膜与所述第2接合膜由同一工序形成。

由此，用于形成第1阻隔膜的工序和形成第1接合膜的工序由同一工序进行，因此，无需增设形成第1阻隔膜的工序。另外，用于形成第2阻隔膜的工序和形成第2接合膜的工序由同一工序进行，因此，无需增设形成第2阻隔膜的工序。从而，可以高效地制造滤光器。

(4)在本发明的一个方式中，其特征在于，所述第1阻隔膜的材料与所述第1接合膜的材料不同，所述第2阻隔膜的材料与所述第2接合膜的材料不同。