[发明专利]一种电容式触控面板及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种电容式触控面板及其制造方法，属触控面板制作领域。

背景技术

目前的电容式触控面板按照基材可分为玻璃结构和PET膜结构。

玻璃结构一般是在一片玻璃的双面形成电路图案，例如某些手机、平板电脑产品采用的就是这种结构。但是玻璃结构存在厚、重、易碎、不能弯曲等缺点。玻璃一般厚300微米。另外玻璃结构两面的图案是分开制作的，存在效率低，良率提升不易等问题。

膜结构一般是采用两片贴合在一起的办法。两片贴合在一起容易造成两面电路图案对位不准，而且还增加了工序，增加了原材料消耗，还会导致产品厚度增加，透光率下降。另外膜结构边框的走线一般是采用丝网印刷导电银浆的方法实现，受丝网印刷制程的限制，线宽/线间距都不能太窄。目前丝网印刷导电银浆工艺可以量产的线宽/线间距大概在100微米/100微米。由于产品边框需要走多根引线，这样边框就会非常宽。

发明内容

本发明通过在柔性透明基材双面分别布设透明导电层、不透明导电层，然后经过上光阻、曝光、显影、蚀刻的方法形成电路图形。柔性透明基材可选用聚碳酸树脂系列，柔性透明基材两面形成图案，节省了一片透明基材，结构、工艺都简化，厚度可以很容易做到50微米左右，比一片玻璃薄很多；另外采用曝光蚀刻的方法，可以在保证电阻很低的情况下把边框走线的线宽/线间距做到30微米/30微米以内，从而达到产品窄边框的目的；柔性透明基材结构产品的生产过程还可以采用卷到卷制程，适合批量化生产，有助于进一步降低制造成本。因此本发明所制作的触控面板具有厚度薄、重量轻、不易碎、可弯曲、对位精确、结构简单、边框窄等优点。

本发明提供了一种电容式触控面板及其制造方法，包括如下步骤：

步骤一：在光学级柔性基底双面分别布设第一透明导电层与第二透明导电层。该柔性透明基材可以选用光学级的聚对苯二甲酸乙二醇酯(简称PET)或其他材料。该透明导电材料可以选择氧化铟锡或者其他透明导电材料。溅射镀膜的方式可以是单片进行，也可以是以卷到卷的方式进行。

步骤二：在第一导透明电层和第二透明导电层表面再分别布设第一不透明导电层和第二不透明导电层。该不透明导电层可以是电阻值较低的金、银、铜、铝、钼等金属，考虑到后续蚀刻制程方便，优选铜。该不透明导电层可以通过电镀、磁控真空溅射等方式布设。

步骤三：双面同时布设光阻。该光阻可以是市售感光干膜，也可以是液态的光阻胶。可以是正性光阻，也可以是负性光阻。

步骤四：双面同时附加掩模版。两张掩模版精密对位后，双面同时曝光，把掩膜版上的图案转移到光阻上面。该掩模版可以使铬版、玻璃干版、菲林版等等，考虑到成本及使用效果，优选玻璃干版。

步骤五：蚀刻掉非导电区域的不透明金属和透明导电物质。

步骤六：光阻剥离。

步骤七：边框金属走线区域重新布设抗蚀刻层，该抗蚀刻层可以是抗蚀刻油墨或者光阻等。

步骤八：使用选择性蚀刻液，蚀刻掉网格区的不透明金属，裸露出位于下面的透明导电图案。

步骤九：剥掉步骤七布设的抗蚀刻层。

通过以上步骤，就得到了一种电容式触控面板。

附图说明

图1：为透明基材双面布设明导电层和不透明导电层后的剖面图。

图2：为图1所示材料双面布设光阻后的剖面图。

图3：为图2所示材料双面附加掩膜版后的剖面图。

图4：为图2所示材料双面附加掩模版、双面曝光后的剖面图。

图5：为材料显影后的剖面图。

图6：为材料蚀刻后的剖面图。

图7：为材料剥膜后的剖面图。

图8：为边框金属走线区域重新布设光阻后的剖面图。

图9：为材料经过选择性蚀刻后的剖面图。

图10：为该触控面板最终状态的剖面图。

具体实施方式

下面是本发明的具体实施例来进一步描述：

(1)把柔性透明基材1放在溅射设备内，以真空磁控溅射的方式，在透明基材1的第一表面形成第一透明导电层21，第二表面形成第二透明导电层22。该柔性透明基材选用光学级的聚对苯二甲酸乙二醇酯(简称PET)，厚度125微米。该透明导电材料选择氧化铟锡。溅射镀膜以卷到卷的方式进行。