[发明专利]偶氮类衍生物做为RSK2抑制剂的合成及应用

权利要求书

1.下式Ⅳ化合物在制备治疗或预防RSK2介导的疾病用的药物中的用途：

式中，

R¹-R⁵各自独立选自氢，羟基、磺酸基，任选取代的C₁-C₄烷基，任选取代的C1-C6烷氧基羰基，CN，氨基磺酰基，羧基，N，N-二(任选取代的C1-C4烷基)氨基，卤素，硝基，氨基，经任选取代的苄基、任选取代的呋喃基取代的酰胺基，任选取代的苯磺酰氨基，吡咯烷基磺酰基，任选取代的哌啶基磺酰基，NCO，NCS，脒基，氨基甲酰基，苯胺酰基和苯胺酰氨基；或者R²与R³或R³和R⁴与它们所连接的苯环一起形成如下基团：

R为任选取代的芳基或5～14元含氧和/或氮的杂芳基。

2.下式Ⅳ化合物在制备抑制RSK2活性用的药物中的用途：

式中，

R¹-R⁵各自独立选自氢，羟基、磺酸基，任选取代的C₁-C₄烷基，任选取代的C1-C6烷氧基羰基，CN，氨基磺酰基，羧基，N，N-二(任选取代的C1-C4烷基)氨基，卤素，硝基，氨基，经任选取代的苄基、任选取代的呋喃基取代的酰胺基，任选取代的苯磺酰氨基，吡咯烷基磺酰基，任选取代的哌啶基磺酰基，NCO，NCS，脒基，氨基甲酰基，苯胺酰基和苯胺酰氨基；或者R²与R³或R³和R⁴与它们所连接的苯环一起形成如下基团：

R为任选取代的芳基或5～14元含氧和/或氮的杂芳基。

3.如权利要求1或2所述的用途，其特征在于，所述式IV化合物选自下式I、V或VI化合物：

式中，

R¹-R¹⁰各自独立选自氢，羟基、磺酸基，任选取代的C₁-C₄烷基，任选取代的C1-C6烷氧基羰基，CN，氨基磺酰基，羧基，N，N-二(任选取代的C1-C4烷基)氨基，卤素，硝基，氨基，经任选取代的苄基、任选取代的呋喃基取代的酰胺基，任选取代的苯磺酰氨基，吡咯烷基磺酰基，任选取代的哌啶基磺酰基，NCO，NCS，脒基，氨基甲酰基，苯胺酰基和苯胺酰氨基；

R¹¹和R¹²独立选自H、羟基、C1-C4烷基、C1-C4烷氧基、卤素、羧基和硝基；

R¹³独立选自H、C1-C4烷基、羟基、硝基和卤素；

m、n和p独立为0、1或2。

4.如权利要求1或2所述的用途，其特征在于，所述式IV化合物选自下式II化合物：

式中，

R¹-R⁵各自独立选自氢，任选取代的C₁-C₄烷基，卤素，羟基，C₁-C₄烷氧基，硝基，氨基，苯酰氨基，CN，NCO，NCS，羧基，C1-C6烷氧基羰基，脒基，氨基甲酰基，氨基磺酰基，苯胺酰基和苯胺酰氨基；

R⁶-R⁸各自独立选自氢，任选取代的C1-C6烷基，CN，羟基，氨基，任选取代的苯基，任选取代的吡唑酮，氨基硫代甲酰基，三氟甲基，任选取代的苯胺基，和苯胺甲酰(或硫代甲酰)氨基。