[发明专利]等离子体处理装置和等离子体处理方法

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：

至少一部分由电介质的窗构成的能够进行真空排气的处理容器；

在所述处理容器内保持被处理基板的基板保持部；

用于对所述基板实施期望的等离子体处理，向所述处理容器内供给期望的处理气体的处理气体供给部；

具有并进地延伸的第一线圈段和第二线圈段，用于在所述处理容器内通过感应耦合生成处理气体的等离子体，设置在所述电介质窗之外的RF天线；

将适于所述处理气体的高频放电的频率的高频电力向所述RF天线供给的高频供电部；和

开关电路网，其在所述RF天线内，能够在下述模式之间切换：并联连接所述第一线圈段和第二线圈段的并联模式；以流过所述第一线圈段的电流的方向和流过所述第二线圈段的电流的方向在线圈卷绕方向上相同的方式串联连接所述第一线圈段和第二线圈段的成倍型串联模式；和以流过所述第一线圈段的电流的方向和流过所述第二线圈段的电流的方向在线圈卷绕方向上相反的方式串联连接所述第一线圈段和第二线圈段的抵消型串联模式。

2.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述第一线圈段和第二线圈段隔开一定的间隙地平行延伸。

3.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述开关电路网包括：

第一开关，其能够将与来自所述高频供电部的高频供电线连接或能够与该高频供电线连接的第一端子，在与所述第一线圈段的一方的端部连接的位置、和与所述第一线圈段的另一方的端部连接的位置之间切换；

第二开关，其能够将所述第一线圈段的另一方的端部，在与所述第二线圈段的一方的端部连接的位置、与所述第二线圈段的另一方的端部连接的位置、和与所述第二线圈段的一方的端部和另一方的端部中的任意一个均不连接的位置之间切换；和

第三开关，其能够将所述第二线圈段的一方的端部，在与所述第一线圈段的一方的端部连接的位置、和与所述第一线圈段的另一方的端部连接的位置之间切换。

4.如权利要求3所述的等离子体处理装置，其特征在于：

在来自所述高频供电部的高频供电线与所述第一端子之间连接有第三线圈段。

5.如权利要求3或4所述的等离子体处理装置，其特征在于：

在所述第二线圈段的另一方的端部与第二端子之间连接有第四线圈段，该第二端子与保持为接地电位的接地电位部件电连接或能够与该接地电位部件电连接。

6.如权利要求3或4所述的等离子体处理装置，其特征在于：

在所述第二线圈段的另一方的端部与第二端子之间连接有电容器，该第二端子与保持为接地电位的接地电位部件电连接或能够与该接地电位部件电连接。

7.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述开关电路网包括：

第一开关，其能够将与保持为接地电位的接地电位部件电连接或能够与该接地电位部件电连接的第二端子，在与所述第二线圈段的一方的端部连接的位置、和与所述第二线圈段的另一方的端部连接的位置之间切换；

第二开关，其能够将所述第二线圈段的另一方的端部，在与所述第一线圈段的一方的端部连接的位置、与所述第一线圈段的另一方的端部连接的位置、和与所述第一线圈段的一方的端部和另一方的端部中的任意一个均不连接的位置之间切换；和

第三开关，其能够将所述第一线圈段的一方的端部，在与所述第二线圈段的一方的端部连接的位置、和与所述第二线圈段的另一方的端部连接的位置之间切换。

8.如权利要求3或7所述的等离子体处理装置，其特征在于：

在所述第一线圈段的另一方的端部与所述第二线圈段的一方的端部之间，经由所述第二开关和第三开关连接有电容器。

9.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

在线圈卷绕方向上，

所述第一线圈段的一方的端部和另一方的端部相互接近，

所述第二线圈段的一方的端部和另一方的端部相互接近。

10.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

在与线圈卷绕方向正交的规定的方向上，

所述第一线圈段和第二线圈段的各自的一方的端部相互接近，

所述第一线圈段和第二线圈段的各自的另一方的端部相互接近。