[发明专利]一种受激发射损耗显微镜中抑制光斑的生成方法及装置无效
申请号: | 201110071090.X | 申请日: | 2011-03-23 |
公开(公告)号: | CN102122080A | 公开(公告)日: | 2011-07-13 |
发明(设计)人: | 匡翠方;郝翔;李旸晖;刘旭 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | G02B27/48 | 分类号: | G02B27/48;G02B21/08 |
代理公司: | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人: | 褚超孚 |
地址: | 310027 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 受激发射 损耗 显微镜 抑制 光斑 生成 方法 装置 | ||
1.一种受激发射损耗显微镜中抑制光斑的生成方法,包括以下步骤:
(1)将由激光器出射的入射光线调制为切向偏振光;
(2)将所述的切向偏振光垂直通过一个0/π四象限位相板表面进行位相编码,使所述的切向偏振光产生相对于初始相位的位相延迟,位相延迟的大小由所述的切向偏振光的圆形横截面内过特定点所处的迪卡尔坐标象限所决定:当处于一、三象限时,位相延迟为0,当处于二、四象限时,位相延迟为π;
(3)将经过步骤(2)位相编码后的切向偏振光进行远场超分辨聚焦,聚焦后在焦平面附近形成一个面包圈样的空心聚焦光斑,为受激发射损耗显微镜中抑制光斑。
2.如权利要求1所述的受激发射损耗显微镜中抑制光斑的生成方法,其特征在于,所述的步骤(1)中,入射光线为波长在380~780nm范围内的可见光。
3.如权利要求1所述的受激发射损耗显微镜中抑制光斑的生成方法,其特征在于,所述的步骤(1)中,切向偏振光的波面形状为均匀平面波。
4.如权利要求1所述的受激发射损耗显微镜中抑制光斑的生成方法,其特征在于,所述的步骤(3)中进行远场超分辨聚焦采取将经过位相编码后的切向偏振光通过高数值孔径的消复色差透镜实现。
5.如权利要求4所述的受激发射损耗显微镜中抑制光斑的生成方法,其特征在于,所述的高数值孔径NA=1~1.4。
6.一种用于实现如权利要求1~5任一所述的受激发射损耗显微镜中抑制光斑的生成方法的装置,包括:
用于产生入射光线的激光器;
用于将激光器产生的入射光线调制为切向偏振光的空间光调制器;
用于对切向偏振光进行位相编码的0/π四象限位相板;
用于对经过位相编码后的切向偏振光进行远场超分辨聚焦的聚焦器件;
所述的激光器、空间光调制器、0/π四象限位相板和聚焦器件位于同轴光路上。
7.如权利要求6所述的装置,其特征在于,所述的激光器为能发射波长为380~780nm内任意波长的可见光的激光器。
8.如权利要求6所述的装置,其特征在于,所述的空间光调制器为由微结构光栅与干涉仪组成的空间光调制器。
9.如权利要求6所述的装置,其特征在于,所述的聚焦器件为高数值孔径的消复色差透镜,所述的高数值孔径NA=1~1.4。
10.如权利要求9所述的装置,其特征在于,所述的高数值孔径NA=1.4。
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