[发明专利]影像显示系统无效

专利信息
申请号: 201110073781.3 申请日: 2011-03-25
公开(公告)号: CN102386340A 公开(公告)日: 2012-03-21
发明(设计)人: 西川龙司;徐湘伦 申请(专利权)人: 奇美电子股份有限公司;群康科技(深圳)有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/54;H01L27/32
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 张波
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 影像 显示 系统
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种平面显示器(flat panel display,FPD)技术,特别是涉及一种有机发光装置(organic light-emitting/electroluminescent device,OLED/OELD)。

背景技术

近年来,随着电子产品发展技术的进步及其日益广泛的应用,像是移动电话、个人数字助理(PDA)及笔记型电脑等等的问市,使得与传统显示器相比具有较小体积及电力消耗特性的平面显示器(FPD)的需求与日俱增,成为目前重要的电子应用产品之一。在平面显示器当中,由于有机电致发光装置具有自发光、高亮度、广视角、高响应速度及工艺容易等特性,使得有机电致发光装置无疑的将成为下一世代平面显示器的最佳选择。

图1绘示出已知有机电致发光装置20的剖面示意图。有机电致发光装置20包括:形成于基底10上的阳极层12、形成于阳极层12上方的阴极层16以及夹设于阳极层12与阴极层16之间的有机材料层14。通常有机材料层14由空穴注入层、空穴传输层、电致发光层、电子传输层以及电子注入层依序堆叠而成(未绘示)。再者,阴极层16包括薄金属层以及位于上方的透明导电层(未绘示)。透明导电层,例如铟锡氧化物(indium tin oxide,ITO)通常是透过溅镀工艺(sputtering)而形成。

然而,溅镀工艺中的等离子体容易损害下方的有机材料层14而破坏其发光特性(light-emitting characteristics)。再者,形成透明导电层(如,铟锡氧化物)的溅镀工艺中所加入的氧气也容易造成薄金属层氧化而破坏电子注入能力(electron injection ability)。

因此,有必要寻求一种新的有机电致发光装置结构,其能够解决或改善上述的问题。

发明内容

有鉴于此,本发明实施例提供一种影像显示系统。此系统包括有机发光装置,其包括:阳极层,设置于基底上;有机材料层,设置于阳极层上;以及阴极层,设置于有机发光层上。其中,阴极层包括:金属层,与有机材料层接触;透明导电层,设置于金属层上方;以及有机缓冲层,夹设于金属层与透明导电层之间,而有机缓冲层具有载流子迁移率在10-3cm2/(V·s)至10-5cm2/(V·s)的范围。

附图说明

图1绘示出已知有机发光显示装置剖面示意图;

图2绘示出根据本发明实施例的具有有机发光显示装置的影像显示系统剖面示意图;

图3绘示出图2中有机发光装置的制作方法流程图。

图4绘示出有机发光装置的发光效率(cd/A)与电流密度(mA/cm2)的关系曲线图。

图5绘示出有机发光装置的亮度(cd/m2)与驱动电压(V)的关系曲线图。

图6绘示出有机发光装置的电流密度(mA/cm2)与驱动电压(V)的关系曲线图。

图7绘示出有机发光装置的光谱图;

图8绘示出根据本发明另一实施例的具有影像显示系统方块示意图。

附图标记说明

已知

10~基底;        12~阳极层;

14~有机材料层;  16~阴极层;

20~有机发光装置。

实施例

100~基底;        102~阳极层;

104~空穴注入层;  106~空穴传输层;

108~电致发光层;  110~电子传输层;

112~电子注入层;  114~有机发光层;

117~金属层;      119~有机缓冲层;

121~透明导电层;  122~阴极层;

200~有机发光装置;300~平面显示器;

400~输入单元;    500~电子装置;

A、B、C~曲线;    S1、S2、S3、S4~步骤。

具体实施方式

以下说明本发明实施例的制作与使用。然而,可轻易了解本发明所提供的实施例仅用于说明以特定方法制作及使用本发明,并非用以局限本发明的范围。

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