[发明专利]一种超材料制备方法有效
| 申请号： | 201110074031.8 | 申请日： | 2011-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN102480001A | 公开（公告）日： | 2012-05-30 |
| 发明（设计）人： | 刘若鹏;赵治亚;许毓钦;王文剑 | 申请（专利权）人： | 深圳光启高等理工研究院;深圳光启创新技术有限公司 |
| 主分类号： | H01Q15/00 | 分类号： | H01Q15/00;B82Y40/00;B32B15/08 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518057 广东省深圳市南山区*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 材料 制备 方法 | ||
1.一种超材料制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
S1、制作多块基板，每块基板所选用的原料不完全相同；
S2、在每块所述基板上附着人造微结构，得到超材料片层；
S3、将制得的多个超材料片层组装成一体。
2.根据权利要求1所述的超材料制备方法，其特征在于，所述基板的原料包括酚醛树脂、环氧树脂和/或聚酰胺。
3.根据权利要求1所述的超材料制备方法，其特征在于，所述S1选用热压成型工艺，温度135-170℃，压力250-350Psi。
4.根据权利要求1所述的超材料制备方法，其特征在于，所述步骤S2由如下步骤完成：
S20、在所述基板上附着金属层；
S21、将所述金属层加工去料，余下人造微结构。
5.根据权利要求4所述的超材料制备方法，其特征在于，所述步骤S20采用电镀、沉积方式实现，所述步骤S21采用蚀刻方式实现。
6.根据权利要求1所述的超材料制备方法，其特征在于，所述步骤S2由如下步骤完成：
P20、在所述基板上附着保护层，所述保护层上具有与人造微结构形状相同的镂孔；
P21、在所述保护层上附着金属层，且经过所述镂孔的金属层局部直接附着在基板上；
P22、去除保护层及其上的金属层，余下直接附着在基板上的金属层部分形成人造微结构。
7.根据权利要求6所述的超材料制备方法，其特征在于，所述保护层为光刻胶或光刻薄膜。
8.根据权利要求6所述的超材料制备方法，其特征在于，所述步骤P21采用电镀、沉积方式实现。
9.根据权利要求1所述的超材料制备方法，其特征在于，所述步骤S2采用打印的方式，将金属粉直接打印到基板上组成几何图案而形成人造微结构。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳光启高等理工研究院;深圳光启创新技术有限公司，未经深圳光启高等理工研究院;深圳光启创新技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110074031.8/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
