[发明专利]一种石墨炔纳米薄膜及其制备方法有效
申请号: | 201110075103.0 | 申请日: | 2011-03-28 |
公开(公告)号: | CN102225757A | 公开(公告)日: | 2011-10-26 |
发明(设计)人: | 李玉良;刘辉彪;李勇军;钱学旻 | 申请(专利权)人: | 中国科学院化学研究所 |
主分类号: | C01B31/04 | 分类号: | C01B31/04;B82Y30/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 关畅 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 石墨 纳米 薄膜 及其 制备 方法 | ||
1.一种石墨炔纳米薄膜的制备方法,包括如下步骤:将盛放有石墨炔粉末的容器和表面生长有氧化锌纳米棒阵列的基底置于管式反应器中,所述容器和基底之间设有间距,将所述管式反应器加热至570℃-630℃,并向所述管式反应器中通入惰性气体进行反应即得所述石墨炔纳米薄膜。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述容器和所述基底之间的间距为7cm-9cm;所述氧化锌纳米棒的长度为1μm-2μm;所述氧化锌纳米棒的直径为86nm-200nm。
3.根据权利要求1或2所述的制备方法,其特征在于:所述基底为硅片基底、石英基底或陶瓷基底。
4.根据权利要求1-3中任一所述的制备方法,其特征在于:所述管式反应器为石英管反应器。
5.根据权利要求1-4中任一所述的制备方法,其特征在于:所述容器的材质为陶瓷或石英。
6.根据权利要求1-5中任一所述的制备方法,其特征在于:所述石墨炔粉末的粒径为200nm-1μm。
7.根据权利要求1-6中任一所述的制备方法,其特征在于:所述氩气的流速为40sccm-60sccm;所述反应的时间为30分钟。
8.根据权利要求1-7中任一所述的制备方法,其特征在于:所述反应还包括在加热所述管式反应器前,向所述管式反应器中通入氩气的步骤。
9.权利要求1-8中任一所述方法制备得到的石墨炔纳米薄膜。
10.根据权利要求9所述的石墨炔纳米薄膜,其特征在于:所述薄膜的厚度为5.0nm-13nm。
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