[发明专利]一种抗光子暗化的有源光纤及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201110076289.1 申请日: 2011-03-29
公开(公告)号: CN102135641A 公开(公告)日: 2011-07-27
发明(设计)人: 李进延;陈瑰;李海清;戴能利;彭景刚;蒋作文;杨旅云;盛于邦;张泽学 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: G02B6/036 分类号: G02B6/036;G02B6/02;G02B1/00;C03B37/02
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 朱仁玲
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 光子 有源 光纤 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种抗光子暗化的有源光纤,其纤芯以二氧化硅为基质,包含至少一种有源离子以及共掺杂剂,其中有源离子为原子序数为57~71的稀土离子,其特征在于,共掺杂剂为铝、钇和铈离子。

2.根据权利要求1所述的抗光子暗化的有源光纤,其特征在于,纤芯中有源离子的摩尔百分比为500ppm~15000ppm,有源离子与钇离子的摩尔比为1:0.05~1:10,有源离子与铈离子的摩尔比为1:0.25~1:8,稀土离子与铝离子的摩尔比为1:3~1:10。

3. 根据权利要求1所述的抗光子暗化的有源光纤,其特征在于,光纤纤芯中有源离子的浓度分布为纤芯均匀掺杂、环形阶跃掺杂、环形渐变掺杂或圆形点阵掺杂。

4. 一种抗光子暗化的有源光纤的制备方法,包括以下步骤:

(1)向纯石英反应管内通入六氟化硫,对纯石英反应管的内壁进行腐蚀抛光处理;

(2)向纯石英反应管内通入四氯化硅和氧气的混合气体,采用正向沉积方式沉积2趟包层;

(3)包层沉积完毕后,向纯石英反应管内通入四氯化硅、氧气和氯化铝,采用正向沉积方式沉积1趟芯层;

(4)将沉积后的反应管用含有有源离子、铈和钇离子的盐酸酒精混合液浸泡均匀;

(5)向纯石英反应管内通入氯气和氧气,氯气和氧气的流量比为1:5-1:10,对反应管进行烘干处理;

(6)在氯气、氦气和氧气的混合气氛下将纯石英反应管玻璃化,反应温度为2000-2200摄氏度,氯气流量为5-50sccm,氦气流量为10-50sccm,氧气流量为50-300sccm;

(7)判断有源离子的浓度分布是否为纤芯均匀掺杂,若是,直接进入步骤(8),否则,重复步骤(3)到(6),直到完成掺杂纤芯的制备,进入步骤(8);

(8)在2000-2200摄氏度,氯气流量为5-30sccm,氧气流量为100-200sccm的气氛下缩棒完成光纤预制棒的制备;

(9)将所制备的光纤预制棒拉丝制成有源光纤。

5. 根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,步骤(9)中采用二次拉丝法将光纤预制棒拉丝制成有源光子晶体光纤。

6. 根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,步骤(9)中采用拉丝塔将光纤预制棒拉制成双包层光纤。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华中科技大学,未经华中科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110076289.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top