[发明专利]一种行星架的锻造工艺无效

专利信息
申请号: 201110076401.1 申请日: 2011-03-29
公开(公告)号: CN102179669A 公开(公告)日: 2011-09-14
发明(设计)人: 吴伯喜;王凤云 申请(专利权)人: 天津天重车轴制造有限公司
主分类号: B23P15/00 分类号: B23P15/00;B21J5/02
代理公司: 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11369 代理人: 史霞
地址: 300400 天*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 行星 锻造 工艺
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种行星架的制备工艺,特别地,涉及一种行星架的锻造工艺。

背景技术

传统的行星架使用的是铸件,一般是采用铸造得到毛坯,铸件的内部组织不均匀,晶粒粗大,使用寿命短。同时会产生铸造缺陷,影响行星架的强度、加工质量及使用时可能产生变形。而现有技术中业已存在的锻造工艺也只是自由锻造,自由锻造会使得锻件的致密性降低,从而质量较差,并且自由锻造的工艺不能用于大批量生产的需求。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术的不足,提供一种行星架的锻造工艺。通过锻造工艺制备的行星架的质量要优于铸造生产的行星架,致密性有大幅度提高,产品质量得到保障。锻造工艺制备的行星架的综合制造成本降低,同时锻造工艺也满足大批量生产。从而可以提高原材料利用率,减小粗加工周期、降低粗加工费用。

本发明的更进一步的目的是提高风电设备的性能,延长风电设备的使用寿命。

本发明公开了一种行星架的锻造工艺,其包括如下步骤:

步骤一、将一定量的钢锭以不大于45分钟/根的速度一次锻造成型为φ330×3550mm的圆坯料;

步骤二、将所述锻坯在等温的状态下进行去氢处理,时间为20小时;

步骤三、将所述经过去氢处理的锻坯切削为多件φ330×108mm的坯料;

步骤四、将所述坯料加热,并按坯料变形量分为数个工序,之后利用模具将所述坯料根据数个工序依次锻造成型为锻件;

步骤五、将所述锻造成型的锻件做锻后正火、回火处理,时间共计为20小时;

步骤六、将所述经过处理的成型后的锻件做调质处理;

步骤七、将所述经过调质处理的锻件利用机床加工内孔面和外圆面;

步骤八、以所述内孔面和外圆面为基准利用数控加工的方式加工圆柱外圆部、槽部以及凸台部;

步骤九、利用数控插齿机制花键序。

本发明的行星架的锻造工艺,所述步骤一中,所述钢锭每根重量为3吨。

本发明的行星架的锻造工艺,所述步骤三中的每根锻件切削为32件坯料。

本发明的行星架的锻造工艺,所述每件坯料重量为73千克。

本发明的行星架的锻造工艺,所述步骤五中正火和回火处理的时间共计为20小时。

本发明的行星架的锻造工艺,所述步骤九中每件锻件插有300个花键。

本发明的有益效果是:行星架改为锻件进行加工,通过膜锻工艺进行生产加工,大大提高了内部质量和工作效率,减少了加工周期。减少了原材料的消耗,后续机加工序加工费用相对较低;模锻成型后,可直接调质处理。原材料利用率较高,材料利用率可达到75%。粗加工周期及粗加工费用较低。锻件的质量要优于自由锻造,致密性有大幅度提高,对产品质量有保障。模锻锻造可满足大批量生产要求。

附图说明

图1为本发明的制造方法示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明做进一步的详细说明,以令本领域技术人员参照说明书文字能够据以实施。

如图1所示,本发明的一种行星架的锻造工艺包括如下步骤:

步骤一、将一定量的钢锭以不大于45分钟/根的速度一次锻造成型为φ330×3550mm的圆坯料;

步骤二、将所述锻坯在等温的状态下进行去氢处理,时间为20小时;

步骤三、将所述经过去氢处理的锻坯切削为多件φ330×108mm的坯料;

步骤四、将所述坯料加热,并按坯料变形量分为数个工序,之后利用模具将所述坯料根据数个工序依次锻造成型为锻件;

步骤五、将所述锻造成型的锻件做锻后正火、回火处理,时间共计为20小时;

步骤六、将所述经过处理的成型后的锻件做调质处理;

步骤七、将所述经过调质处理的锻件利用机床加工内孔面和外圆面;

步骤八、以所述内孔面和外圆面为基准利用数控加工的方式加工圆柱外圆部、槽部以及凸台部;

步骤九、利用数控插齿机制花键序。

优选的是,本发明的行星架的锻造工艺,所述步骤一中,所述钢锭每根重量为3吨。

优选的是,本发明的行星架的锻造工艺,所述步骤三中的每根锻件切削为32件坯料。

优选的是,本发明的行星架的锻造工艺,所述每件坯料重量为73千克。

优选的是,本发明的行星架的锻造工艺,所述步骤五中正火和回火处理的时间共计为20小时。

优选的是,本发明的行星架的锻造工艺,所述步骤九中每件锻件插有300个花键。

尽管本发明的实施方案已公开如上,但其并不仅仅限于说明书和实施方式中所列运用,它完全可以被适用于各种适合本发明的领域,对于熟悉本领域的人员而言,可容易地实现另外的修改,因此在不背离权利要求及等同范围所限定的一般概念下,本发明并不限于特定的细节和这里示出与描述的图例。

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