[发明专利]一种形貌可控尖晶石薄膜及其制备方法无效
申请号: | 201110076446.9 | 申请日: | 2011-03-29 |
公开(公告)号: | CN102181855A | 公开(公告)日: | 2011-09-14 |
发明(设计)人: | 李峰;范国利 | 申请(专利权)人: | 北京化工大学 |
主分类号: | C23C22/68 | 分类号: | C23C22/68 |
代理公司: | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人: | 何俊玲 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 形貌 可控 尖晶石 薄膜 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种形貌可控的尖晶石薄膜及其制备方法,具体涉及一种直接生长在铝基体上的尖晶石薄膜的原位合成技术。
技术背景
尖晶石型复合金属氧化物作为一种重要的无机功能材料,凡是晶体结构和天然矿石--镁铝尖晶石(MgAl2O4)的结构相似的,均称为尖晶石型复合金属氧化物,尖晶石的晶体结构属于立方晶系,其化学分子式可以用AB2O4表示。镁铝尖晶石(MgAl2O4)中的Mg2+可被其它金属离子如Mn2+、Ni2+、Zn2+、Fe2+、Li+等取代,Al3+也可以被其它三价金属离子Fe3+、Cr3+等所代替,从而形成不同元素组成的尖晶石型复合金属氧化物。尖晶石晶体结构中A-O,B-O强离子键的存在使得这类材料具有硬度大、熔点高、化学性能稳定,同时由于其独特的物化特性而被广泛应用于磁性材料、陶瓷材料、防火材料、催化剂、催化剂载体等领域。随着研究的深入,人们开始通过各种方法制备尖晶石薄膜材料,进一步拓展尖晶石型复合金属氧化物的应用范围。在文献Thin Solid Films.2005(472):150-156中,Wu.等采用溶胶-凝胶法在制备了微米级厚度的锌铝尖晶石(ZnAl2O4)薄膜。在文献Chem.Mater.2004(16):1304-1312中,Veith等采用气相沉积(CVD)法在硅及铁基底上制备了镁铝尖晶石(MgAl2O4)薄膜。在文献Catal.Commun.2009(10):1781-1785中,Zhang等采用溶胶凝胶法制备ZnGa2O4薄膜材料,并用于光催化降解亚甲蓝,体现了较好的重复利用率。在文献J.Phys.Chem.C 2007(111):6821-6825中,Huang等采用两步法,首先在铜基体表面制备一层CuFe2O4纳米颗粒,之后通过后期晶化生长制备棒状结构的CuFe2O4薄膜,通过表面功能化处理后制备具有超疏水性能的CuFe2O4薄膜。我们在J.Mater.Chem.2010(20):7378-7385中,在经过硫酸磺化的Si基体表面原位生长镍铁水滑石(NiFe-LDH),通过高温焙烧后生成NiO和NiFe2O4的复合薄膜,再经过稀HCl的选择性溶蚀,去除NiO相,得到NiFe2O4磁性薄膜,通过改变水滑石前体中NiFe比例,来控制最终薄膜的孔结构,从而改变薄膜的磁性大小。在上述文献中,尖晶石薄膜的制备多需要特殊设备,或者价格昂贵的醇盐,高温后处理,制备条件相对苛刻,薄膜易从基体表面脱落,且在后期处理上造成了一定程度的环境污染。我们采用原位合成技术在铝片表面直接制备尖晶石薄膜,工艺简单、低能耗、不污染环境、无毒,具有广泛的应用前景。
发明内容:
本发明的目的是提供一种形貌可控的尖晶石薄膜的制备方法。在不加入表面活性剂,模板剂的条件下,低温一步在铝基片表面原位合成锌铝尖晶石薄膜,并实现对薄膜表面形貌的控制,解决了以往制备的尖晶石薄膜中原料价格昂贵,高温煅烧、烦琐的后期处理,以及薄膜容易从基体上脱落等问题。
本发明中提供的尖晶石薄膜是采用原位合成技术,利用铝片作为基体同时提供反应所需要的铝源,以等体积比的乙醇和水作为溶剂,然后在含有二价离子的溶液中直接在铝片表面合成尖晶石薄膜。通过调节尿素和二价金属盐的浓度,可以控制尖晶石薄膜表面的形貌。
尖晶石薄膜膜层的化学通式是:MAl2O4,其中M代表二价金属离子Zn2+,Mg2+,Ni2+中的任何一种,较佳的为Zn2+。
尖晶石薄膜具体制备方法如下:
A.铝片表面的预处理:将铝片分别用去乙醇和丙酮超声清洗10min,除去表面的杂质和油污,然后用质量分数为1%的盐酸或氢氧化钠溶液浸泡,除去表面氧化层;
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