[发明专利]正型放射线敏感性组合物、层间绝缘膜及其形成方法

权利要求书

1.一种正型放射线敏感性组合物，该组合物包含：

[A]在同一或不同的聚合物分子中具有包含下述式(1)所示的基团的结构单元和含环氧基的结构单元的聚合物，

[B]光酸产生剂，以及

[C]包含具有氟的结构单元和具有硅的结构单元的共聚物。

2.根据权利要求1所记载的正型放射线敏感性组合物，其中[C]共聚物是至少具有来自下述聚合性化合物的结构单元的共聚物，

(c1)下述式(2)所示的聚合性化合物，

(c2)下述式(3)所示的聚合性化合物，以及

(c3)具有下述式(4)所示的基团的聚合性化合物；

式(1)中，R¹和R²各自独立地是氢原子、烷基、环烷基或芳基，这些烷基、环烷基或芳基的氢原子的一部分或全部可以被取代基团取代，但是，不包括R¹和R²都是氢原子的情形，R³是烷基、环烷基、芳烷基、芳基或-M(R^3m)₃所示的基团，M是Si、Ge或Sn，R^3m是烷基，这些的氢原子的一部分或全部可以被取代基团取代，R¹和R³可以连接形成环状醚，

CH₂＝CR⁴COO-C_αH_2α-C_βF_2β+1    (2)

式(2)中，R⁴是氢原子或甲基，α是0～6的整数，β是1～20的整数，

CH₂＝CR⁵COO-(C_γH_2γ-O)_a-R⁶     (3)

式(3)中，R⁵是氢原子或甲基，R⁶是碳原子数为1～12的烷基，γ是2或3，a是结构单元数，其数量平均值是1～30，

式(4)中，R⁷、R⁸、R⁹、R¹⁰和R¹¹各自独立地是碳原子数1～20的烷基、苯基或下述式(5)所示的基团，b是0～3的整数，

式(5)中，R¹²、R¹³和R¹⁴各自独立地是碳原子数1～20的烷基或苯基，c是0～3的整数。

3.根据权利要求2所记载的正型放射线敏感性组合物，其中[C]共聚物进一步包含来自(c4)具有碳原子数为1～8的非取代的烷基酯基的聚合性化合物的结构单元。

4.根据权利要求3所记载的正型放射线敏感性组合物，其中[C]共聚物进一步包含来自(c5)在一分子中具有两个以上不饱和键的聚合性化合物的结构单元。