[发明专利]搅拌器有效

专利信息
申请号: 201110081706.1 申请日: 2011-04-01
公开(公告)号: CN102160760A 公开(公告)日: 2011-08-24
发明(设计)人: 张北;王天亮 申请(专利权)人: 晶辉科技(深圳)有限公司
主分类号: A47J43/042 分类号: A47J43/042
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518055 广东省深圳市南*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 搅拌器
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种搅拌器。

背景技术

现有技术中有各种各样的搅拌器,如申请号为:200910064527.X,申请日为:2009年03月31日的一种奶粉搅拌器。该专利公开的技术方案为:一种奶粉搅拌器包括杯体,杯盖,安装在杯盖内的电机,以及安装在杯盖下端的搅拌器,在杯盖内的电机室下方设有传动搅拌室,该传动搅拌室与电机室完全隔离,传动搅拌室与电机室通过磁传动机构传动连接。该专利公开的技术方案存在的不足是:设置的发热体在工作时会使磁体永久性不可恢复的退磁,如果使用居里点较高的磁体,成本就大为增加了。

所以市场上急需一种磁传动机构可靠近发热体且成本低的搅拌器。

发明内容

根据现有技术存在的不足,本发明的目的是提供一种磁传动机构可靠近发热体且成本低的搅拌器。

一种搅拌器,包括由抗磁材料制成的本体、盖体,所述本体下方设置有基座,所述基座上设置有驱动装置,所述驱动装置的输出轴上设置有转动体,所述转动体上设置有永磁铁,所述盖体上活动设置有受所述永磁铁驱动的亲磁体,所述本体上设置有发热元件,所述输出轴上设置有螺纹,所述转动体通过螺纹活动连接在所述输出轴上。

本技术方案中所述转动体上设置有冷却所述永磁铁的散热叶片。这样设置的优点是:加速所述永磁铁与所述发热元件之间区域的空气流动,保证所述永磁铁的温度处于居里点以下。

本技术方案中所述驱动装置上设置有限制所述永磁铁向下运动的下限位块,所述转动体上设置有与所述下限位块相配合的下挡块。

本技术方案中所述输出轴上设置有限制所述永磁铁向上运动的上限位块,所述转动体上设置有与所述上限位块相配合的上挡块。

本技术方案中所述基座与所述本体是分体结构。这样设置的优点是:利于所述本体的清洗,所述本体还可以作为普通锅体使用。

本技术方案中所述亲磁体可拆卸地设置在所述盖体上。这样设置的优点是:利于所述亲磁体的清洗,所述盖体还可以作为普通锅盖使用。

本技术方案中所述亲磁体是永磁体。这样设置的优点是:所述永磁铁与所述亲磁体之间的吸力最大,即所述亲磁体受到的扭矩最大。

本技术方案中所述永磁铁成对地均布在所述转动体上。当设置多对所述永磁铁时,需要设置多对所述永磁体,此时相邻两块所述永磁铁发出的磁力线相反、相邻两块所述永磁体发出的磁力线相反。

本技术方案中所述输出轴的转速为200~600n/min。

本发明的有益效果是:由于本发明中所述本体上设置有发热元件,所述驱动装置的输出轴上设置有螺纹,所述输出轴通过螺纹连接有转动体,所以在所述发热元件工作的同时需要搅拌时,所述转动体沿着螺纹向上运动,向上运动到某个高度,所述转动体上的所述永磁铁驱动所述亲磁体运动,搅拌开始;由于所述转动体在转动的过程中,设置在所述转动体上的所述永磁铁会自动冷却,保证其本身的温度在居里点以下。当所述输出轴停止转动时,所述转动体沿着螺纹向下运动,远离所述亲磁体,所述亲磁体逐渐的停止运动,搅拌停止,所述本体可以继续加热而不受影响。简言之,螺纹的设置使得本发明对发热元件与永磁铁的位置关系没有任何要求。由于本发明的永磁体无需要求居里点高,所以本发明的搅拌机成本大为降低。

本发明中的其它有益效果,还将在具体实施例中做出说明。

附图说明:

图1为搅拌器的结构示意图;

图2为图1的分解状态图;

图3为图1的A-A向剖视图;

图4为图3的第二种状态图;

图5为图3中驱动装置与转动体的结构示意图;

图6为图4中驱动装置与转动体的结构示意图;

图7为转动体的结构示意图;

图8为驱动器的结构示意图。

附图中各部分结构的标注说明:

1-本体、2-盖体、3-基座、4-驱动装置、41-输出轴、411-上限位块、42-下限位块、5-转动体、51-叶片、52-下挡块、53-上挡块、6-永磁铁、7-亲磁体。

具体实施方式

为了使本发明所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白,以下结合实施例及附图,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此部分所描述的具体实施例仅可用以解释本发明,并不用于限定本发明。

具体实施例

如图1所示,本发明中的搅拌器包括本体1、盖体2和基座3,所述本体1中设置有发热元件,所述本体1为抗磁体(磁的不良导体),如:不锈钢、玻璃、陶瓷或耐高温的塑料等材料制得的容器。所述盖体2盖在所述本体1上,所述基座3设置在所述本体1的下方。

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