[发明专利]研磨盘调节器的监控装置及监控方法有效
申请号: | 201110082291.X | 申请日: | 2011-04-01 |
公开(公告)号: | CN102729136A | 公开(公告)日: | 2012-10-17 |
发明(设计)人: | 钱小飞;陆铭 | 申请(专利权)人: | 无锡华润上华半导体有限公司;无锡华润上华科技有限公司 |
主分类号: | B24B37/005 | 分类号: | B24B37/005;H01L21/304 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 何平 |
地址: | 214028 江苏省无*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 研磨 调节器 监控 装置 方法 | ||
1.一种研磨盘调节器的监控装置,其特征在于,包括相互连接的压力传感器和研磨盘调节器监控模块,所述压力传感器用于获取研磨盘调节器施加给研磨盘的压力的实际大小,生成压力信号并传输给所述研磨盘调节器监控模块,所述研磨盘调节器监控模块对所述压力信号进行处理后输出给显示器显示压力信息。
2.根据权利要求1所述的研磨盘调节器的监控装置,其特征在于,还包括与所述研磨盘调节器监控模块连接的位置传感器,所述位置传感器用于获取所述研磨盘调节器的位置,生成位置信号并传输给所述研磨盘调节器监控模块,所述研磨盘调节器监控模块对所述位置信号进行处理后输出给显示器显示位置信息。
3.根据权利要求2所述的研磨盘调节器的监控装置,其特征在于,所述位置传感器获取的是所述研磨盘调节器在竖直方向的位置。
4.根据权利要求1所述的研磨盘调节器的监控装置,其特征在于,还包括与所述研磨盘调节器监控模块连接的转速传感器,所述转速传感器用于获取研磨盘调节器的金刚石盘的转速,生成转速信号并传输给所述研磨盘调节器监控模块,所述研磨盘调节器监控模块对所述转速信号进行处理后输出给显示器显示转速信息。
5.根据权利要求1所述的研磨盘调节器的监控装置,其特征在于,还包括与所述研磨盘调节器监控模块连接的报警模块,所述研磨盘调节器监控模块还用于获取设定的压力大小,并与所述研磨盘调节器施加给研磨盘的压力的实际大小进行比较,若两者的差距大于第一预设值,所述研磨盘调节器监控模块向所述报警模块输出报警信号,所述报警模块报警。
6.根据权利要求1所述的研磨盘调节器的监控装置,其特征在于,还包括与所述研磨盘调节器监控模块连接的报警模块,所述研磨盘调节器监控模块还用于获取研磨盘调节器的马达的转速,并与所述研磨盘调节器的金刚石盘的转速进行比较,若两者的差距大于第二预设值,所述研磨盘调节器监控模块向所述报警模块输出报警信号,所述报警模块报警。
7.一种研磨盘调节器的监控方法,包括下列步骤:
通过压力传感器获取研磨盘调节器施加给研磨盘的压力的实际大小,并生成压力信号;
对所述压力信号进行处理,生成压力信息;
显示所述压力信息。
8.根据权利要求7所述的研磨盘调节器的监控方法,其特征在于,还包括下列步骤:
通过位置传感器获取所述研磨盘调节器的位置,并生成位置信号;
对所述位置信号进行处理,生成位置信息;
显示所述位置信息。
9.根据权利要求7所述的研磨盘调节器的监控方法,其特征在于,还包括下列步骤:
通过转速传感器获取所述研磨盘调节器的金刚石盘的转速,并生成转速信号;
对所述转速信号进行处理,生成转速信息;
显示所述转速信息。
10.根据权利要求7所述的研磨盘调节器的监控方法,其特征在于,还包括将设定的压力大小与研磨盘调节器施加给研磨盘的压力的实际大小进行比较,若两者的差距大于第一预设值则进行报警的步骤。
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