[发明专利]一种高白光光效氮化镓LED管芯结构有效
申请号: | 201110082400.8 | 申请日: | 2011-04-01 |
公开(公告)号: | CN102738330A | 公开(公告)日: | 2012-10-17 |
发明(设计)人: | 沈燕;冯健;蔺福合;王成新;李树强 | 申请(专利权)人: | 山东华光光电子有限公司 |
主分类号: | H01L33/10 | 分类号: | H01L33/10;H01L33/00;H01L33/48;H01L33/50 |
代理公司: | 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 | 代理人: | 许德山 |
地址: | 250101 山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 白光 氮化 led 管芯 结构 | ||
1.一种高白光光效的氮化镓LED管芯结构,包括自上而下的P电极、P型电流扩展层、量子阱有源区、N型层、N电极、衬底、反射膜;其中所述反射膜蒸镀在减薄抛光的衬底背面,该反射膜是一种多重复合DBR介质膜,由两种介质膜材料组合、且膜系结构是多波段光波反射;所述介质膜材料选自TiO2、SiO2,每个周期各材料层交替,介质膜周期数6-25,总层数12-50层。
2.如权利要求1中所述氮化镓LED管芯结构,其特征在于所述衬底背面的反射膜是两重复合DBR介质膜,所述两重复合DBR介质膜是蓝光460nm高反射和黄光580nm高反射的复合膜;是在衬底背面依次蒸镀TiO2、SiO2薄膜,其中前3-5周期薄膜厚度为460nm高反射膜系,后3-5周期薄膜厚度为580nm高反射膜系;整体膜系在蓝光段和黄光段两个波段有高反射峰。
3.如权利要求2中所述氮化镓LED管芯结构,其特征在于利用介质膜电子束蒸发台,在真空10-7torr压力下,蒸镀TiO2、SiO2介质的折射率分别为2.35和1.46;蒸镀TiO2、SiO2交替薄膜,共6周期12层,其中前3周期膜厚度为460nm波段高反射膜系,每周期膜光学厚度115nm,后3周期膜厚度为580nm波段高反射膜系,每周期膜光学厚度分别为145nm。
4.如权利要求1中所述氮化镓LED管芯结构,其特征在于所述衬底背面的反射膜是三重复合DBR介质膜,所述三重复合DBR介质膜是460nm蓝光高反射、510nm绿光高反射和580nm黄光高反射的复合膜;整个DBR结构共有三个波段高反膜系。
5.如权利要求4中所述氮化镓LED管芯结构,其特征在于利用介质膜电子束蒸发台,在真空10-7torr压力下,蒸镀TiO2、SiO2介质的折射率分别为2.35和1.46;依次蒸镀TiO2、SiO2交替薄膜,共6周期12层,其中前2周期膜厚度为460nm波段高反射膜系,每周期膜光学厚度115nm,依次接下来的2周期膜厚度为510nm波段高反射膜系,每周期膜光学厚度分别为127nm;最后2个周期为580nm波段高反射膜系,每周期膜光学厚度分别为145nm。
6.如权利要求1中所述氮化镓LED管芯结构,其特征在于所述衬底是Al2O3衬底或SiC衬底。
7.权利要求1所述高白光光效的氮化镓LED管芯结构的制备方法,步骤如下:
(1)按照常规工艺制备LED管芯,并将衬底减磨抛光到80-150μm的厚度;
(2)在上述减磨抛光后的芯片衬底背面蒸镀多重复合DBR介质膜;所述介质膜材料选自TiO2、SiO2,每个周期两种材料交替,介质膜总层数12-50层,每个周期内各层厚度根据所控反射的波长而定,使各层介质膜光学厚度为所控反射波长的四分之一倍;
(3)在多重复合DBR介质膜上,电子束蒸发上一层50nm-300nm厚的金属薄膜;该金属薄膜主要对DBR起到保护的作用,金属薄膜材料是Al、Ag、Au一种或者它们的合金;
(4)切割划裂芯片。
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