[发明专利]一种抑制轨迹误差的随机抛光轨迹运动方法

权利要求书

1.一种抑制轨迹误差的随机抛光轨迹运动方法，其特征在于：实现所述方法的步骤包括：

步骤S1：确定待抛光光学元件表面的待抛光点和驻留时间分布，通过随机轨道算法随机生成待抛光光学元件表面离散点的抛光顺序和抛光轨迹；

步骤S2：采用随机轨迹驻留时间补偿方法计算抛光头运动轨迹经历抛光点的停留时间分布，获得待抛光光学元件表面离散点准确的驻留时间；

步骤S3：根据驻留时间的分布，由机床代码转换程序生成随机轨迹数控抛光程序代码，在数控抛光机床执行随机轨迹数控抛光程序代码对待抛光光学元件表面各个点进行抛光。

2.根据权利要求1所述的抑制轨迹误差的随机抛光轨迹运动方法，其特征在于，所述生成离散点的抛光顺序和运动轨迹的步骤是首先确定抛光初始点，然后根据面形权重算法随机生成下一抛光点，记录初始点与下一点的直线运动轨迹，依此类推，直至面形权重算法生成所有的抛光点和相应的运动轨迹为止，使得抛光点轨迹遍历待抛光光学元件表面N×N个离散点，则得到N×N个离散点的抛光顺序和运动轨迹。

3.根据权利要求1所述的抑制轨迹误差的随机抛光轨迹运动方法，其特征在于，所述计算抛光头运动轨迹经历抛光点的停留时间分布的步骤是在抛光点定位运动过程中，抛光轨迹会经过和覆盖其他一些离散点，轨迹运动会对经过和覆盖的离散点产生停留时间分布和材料去除；通过随机轨迹驻留时间补偿方法计算每条抛光头运动轨迹经历某些抛光点的停留时间分布，最后累计统计获得待抛光光学元件表面N×N个离散点的抛光头运动轨迹经历抛光点的停留时间分布。

4.根据权利要求1所述的制轨迹误差的随机抛光轨迹运动方法，其特征在于，所述随机轨迹驻留时间补偿方法是根据面形权重算法在轨迹线生成过程中，求出每一条轨迹线经历抛光的附近离散点，计算所述轨迹线在所述离散点的偏离情况和驻留时间，则在加工数抛光控程序代码生成过程中所述离散点的实际驻留时间为初始的驻留时间分布减去抛光头运动的各个轨迹线在所述离散点的驻留时间的总和。