[发明专利]清洗装置有效

专利信息
申请号: 201110083297.9 申请日: 2011-03-30
公开(公告)号: CN102233340A 公开(公告)日: 2011-11-09
发明(设计)人: 山崎崇文;藤井慎二;柳原伸章;大崎崇嗣;白石裕二 申请(专利权)人: 三浦工业株式会社
主分类号: B08B3/10 分类号: B08B3/10;B08B13/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 雒运朴
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 清洗 装置
【权利要求书】:

1.一种清洗装置,其特征在于,

其具有在每次运转时存储含有运转日期、表示消毒效果的AO值以及作为运转所需时间的运转时间在内的运转信息的运转信息存储机构,

从所述运转信息存储机构取得关于被指定的运转的运转信息,至少输出运转日期、AO值、运转时间。

2.如权利要求1所述的清洗装置,其特征在于,

在被清洗物浸渍在清洗槽内的液体中的状态下,在将所述清洗槽内的液体加温到设定温度之后,一次或者多次进行依次含有液相给气脉冲控制和气相给气脉冲控制的工序,

在所述液相给气脉冲控制中,反复进行如下操作直到满足规定的结束条件,所述操作是在使所述清洗槽内的液体沸腾或即将沸腾之前将所述清洗槽内减压的状态下,在从所述被清洗物的下方将外部气体导入到所述清洗槽内的液相部并使液体沸腾后,将所述清洗槽内的液体再加温到所述设定温度,

在所述气相给气脉冲控制中,反复进行如下操作直到满足规定的结束条件,所述操作是持续所述清洗槽内的减压以使所述清洗槽内的液体持续沸腾,在该减压中,向所述清洗槽内的气相部导入外部气体,瞬间暂时地恢复压力直到液体的沸腾停止,

对于所述工序内的至少一个工序,所述设定温度、作为在所述液相给气脉冲控制中进行的对液相部的给气次数的液相给气脉冲次数、以及作为在所述气相给气脉冲控制中进行的对气相部的给气次数的气相给气脉冲次数也作为所述运转信息在每次运转时存储在所述运转信息存储机构中。

3.如权利要求2所述的清洗装置,其特征在于,

所述清洗装置进行多次依次含有所述液相给气脉冲控制和所述气相给气脉冲控制的工序,并且其中的一个工序的所述设定温度高于其他工序的所述设定温度,而实现所述被清洗物的消毒,

在兼备该消毒的液相给气脉冲控制和紧接其后的气相给气脉冲控制中,作为所述运转信息在所述运转信息存储机构中,除了所述设定温度、所述液相给气脉冲次数、所述气相给气脉冲次数之外,还存储作为所述液相给气脉冲控制的进行时间的消毒设定时间和基于所述液相给气脉冲控制的进行引起的所述AO值。

4.如权利要求2或者3所述的清洗装置,其特征在于,

在所述运转信息中含有清洗指示器的结果。

5.如权利要求4所述的清洗装置,其特征在于,

分为从所述运转信息存储机构取得运转日期、清洗指示器的结果、AO值、运转时间并输出的处理;和除了运转日期、清洗指示器的结果、AO值、运转时间外也取得并输出其他项目的处理。

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