[发明专利]等离子体生成设备

权利要求书

1.一种设备，包括：

第一等离子体生成装置(136)；

第二等离子体生成装置(138)；以及

通道(194)，其构造成用以在所述第一等离子体生成装置与所述第二等离子体生成装置之间引导等离子体。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述第二等离子体生成装置包括：

一对相对且间隔开的电极(144a，144b)；以及

连接在所述一对相对的电极之间的低电压高电流能量源(148)。

3.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，所述第二等离子体生成装置构造成用以接收由所述第一等离子体生成装置产生的等离子体，以便将所述一对相对的电极之间的区域的阻抗减小到足以容许在所述一对相对电极之间由于所述低电压高电流能量源而引起形成电弧。

4.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，所述第二等离子体生成装置包括构造成用以在所述一对相对的电极之间存在电弧时被烧蚀的烧蚀性材料(152)。

5.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述第一等离子体生成装置包括：

第一电极(162)；

与所述第一电极间隔开的基电极(142b)；以及

高电压低电流能量源(150)，其构造成用以在所述第一电极与所述基电极之间生成足以导致其间空气击穿的电势差。

6.根据权利要求5所述的设备，其特征在于，所述第一等离子体生成装置包括与所述基电极相对且间隔开的第二电极(142a)以及连接在所述第二电极与所述基电极之间的低电压高电流能量源(148)，所述第二电极和所述基电极设置成以便在电弧存在于所述第一电极与所述基电极之间时导致其间的空气击穿。

7.根据权利要求5所述的设备，其特征在于，所述第一等离子体生成装置包括构造成用以在所述第二电极与所述基电极之间存在电弧时被烧蚀的烧蚀性材料(152)。

8.根据权利要求5所述的设备，其特征在于，所述高电压低电流能量源构造成用以产生至少大约8kV的电压和小于或等于大约1A的电流。

9.根据权利要求5所述的设备，其特征在于，所述第一等离子体生成装置包括连接在所述第一电极与所述基电极之间的与所述高电压低电流能量源并联的低电压高电流能量源(148)，其中，所述高电压低电流能量源构造成用以提供跨过所述第一电极和所述基电极的高电压低电流脉冲，以及所述低电压高电流能量源构造成用以响应于所述高电压低电流脉冲来提供跨过所述第一电极和所述基电极的低电压高电流脉冲。

10.根据权利要求9所述的设备，其特征在于，所述低电压高电流能量源构造成用以产生小于或等于大约1kV的电压和至少大约4kA的电流。