[发明专利]采用等离子喷涂制备氧化物阴极的方法无效
申请号: | 201110086195.2 | 申请日: | 2011-04-07 |
公开(公告)号: | CN102737924A | 公开(公告)日: | 2012-10-17 |
发明(设计)人: | 张敏;王小霞;罗积润;赵庆兰;廖显恒 | 申请(专利权)人: | 中国科学院电子学研究所 |
主分类号: | H01J9/02 | 分类号: | H01J9/02;C23C4/12;C23C4/10 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 周国城 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 采用 等离子 喷涂 制备 氧化物 阴极 方法 | ||
1.一种采用等离子喷涂制备氧化物阴极的方法,其特征在于,该方法包括:
制备氧化物喷涂材料;
将制备的所述氧化物喷涂材料置入等离子炬中,装配阴极基底至喷涂模具;
在所述等离子炬中的等离子气氛下加热所述氧化物喷涂材料,使所述氧化物喷涂材料撞击并附着在所述阴极基底上,形成氧化物阴极。
2.根据权利要求1所述的采用等离子喷涂制备氧化物阴极的方法,其特征在于,所述制备氧化物喷涂材料的步骤中,
所述氧化物喷涂材料为由碳酸钡、碳酸锶和碳酸钙组成的三元碳酸盐,其中,所述碳酸钡、碳酸锶和碳酸钙的摩尔比为X∶38∶4,其中X介于69至78之间。
3.根据权利要求1所述的采用等离子喷涂制备氧化物阴极的方法,其特征在于,所述将氧化物喷涂材料置入等离子炬中的步骤之前还包括:
在所述阴极基底上制备毛化层。
4.根据权利要求2所述的采用等离子喷涂制备氧化物阴极的方法,其特征在于,所述氧化物喷涂材料为平均长度30μm至40μm的颗粒状。
5.根据权利要求4所述的采用等离子喷涂制备氧化物阴极的方法,其特征在于,所述制备氧化物喷涂材料的步骤包括:
将碳酸钡、碳酸锶和碳酸钙以摩尔比为X∶38∶4进行均匀混合,其中X介于69至78之间;
将混合均匀的所述三元碳酸盐放入坩埚置于马弗炉中,在400℃保温30分钟,600℃保温30分钟,900℃保温2小时,而后自然冷却;
将自然冷却后的所述三元碳酸盐进行研磨,过250目的网筛,制备出三元碳酸盐的氧化物喷涂材料。
6.根据权利要求3所述的采用等离子喷涂制备氧化物阴极的方法,其特征在于,所述毛化层的材料为镍,其厚度介于50μm至100μm之间。
7.根据权利要求6所述的采用等离子喷涂制备氧化物阴极的方法,其特征在于,所述在阴极基底上制备镍毛化层的步骤包括:
在所述阴极基底上喷硝棉;
将过325目筛的镍粉粘在所述喷过硝棉的阴极基底上;
将所述粘有镍粉的阴极基底置入H2炉中进行煅烧。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的采用等离子喷涂制备氧化物阴极的方法,其特征在于,所述将制备氧化物喷涂材料置入等离子炬中的步骤之前还包括:
将氧化物喷涂材料置入烘箱中在200℃烘2小时。
9.根据权利要求1至7中任一项所述的采用等离子喷涂制备氧化物阴极的方法,其特征在于,所述在等离子炬中的等离子气氛下加热氧化物喷涂材料的步骤中,
所述等离子气氛为主气为Ar,次气为H2,喷涂电流为500A。
10.根据权利要求1至7中任一项所述的采用等离子喷涂制备氧化物阴极的方法,其特征在于,
所形成氧化物阴极的厚度介于40μm至60μm之间。
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