[发明专利]被覆件及其制造方法

权利要求书

1.一种被覆件，包括硬质基体，其特征在于：该被覆件还包括依次形成于该硬质基体上的过渡层、复合硬质层和抗氧化层，所述过渡层为铬层，所述复合硬质层包括依次形成于过渡层上的氮化铬层、氮化铪和氮化钼层，所述抗氧化层为氧化铝层。

2.如权利要求1所述的被覆件，其特征在于：该复合硬质层的厚度为3～7μm。

3.如权利要求1所述的被覆件，其特征在于：该硬质基体的材质为高速钢或不锈钢。

4.一种被覆件的制备方法，包括以下步骤：

提供一硬质基体；

于该硬质基体的表面磁控溅射铬层；

于该铬层上磁控溅射氮化铬层；

于该氮化铬层上磁控溅射氮化铪层；

于该氮化铬层上磁控溅射氮化钼层；

于该氮化钼层上磁控溅射氧化铝层。

5.如权利要求4所述的被覆件的制备方法，其特征在于：磁控溅射所述氮化铬层，以氩气为工作气体，调节氩气流量为100～300sccm，通入流量为10～70sccm的氮气，对硬质基体施加偏压-50～-200V，设置偏压的占空比为30％～80％，开启铬靶材，设置其功率为1～3kw。

6.如权利要求5所述的被覆件的制备方法，其特征在于：磁控溅射所述氮化铬层的时间为20～30min。

7.如权利要求4所述的被覆件的制备方法，其特征在于：形成该氮化铪层的工艺参数为：以铪靶为靶材，设置铪靶的功率为1～4KW，对硬质基体施加偏压为-100～-300V，设置偏压的占空比为30％～80％，氮气流量为10～70sccm，溅射时间为60～90min。

8.如权利要求7所述的被覆件的制备方法，其特征在于：形成该氮化钼层的工艺参数为：氮气流量为100～200sccm，对硬质基体施加-50～-100V的偏压，设置偏压的占空比为30％～50％，开启钼靶，设置其功率为8～13kw，沉积氮化钼层的时间为40～70min。

9.如权利要求4所述的被覆件的制备方法，其特征在于：磁控溅射氧化铝层的工艺：设置氩气流量为100～200sccm，设置氧气流量为150～200sccm，对硬质基体施加-50～-100V的偏压，设置偏压的占空比为30％～50％，选择铝为靶材，设置其功率为8～13kw，沉积时间为30～60min。