[发明专利]清洁装置及清洁方法、薄膜生长反应装置及生长方法

权利要求书

1.一种用于清洁一薄膜生长反应腔的内表面的清洁装置，其特征在于，包括：

支撑单元，其包括一支撑面；

清洁单元，其包括一面向所述反应腔的内表面的表面，所述表面上设置有若干刮擦部件；

电机，其设置于所述支撑单元上，所述电机包括一驱动轴，所述驱动轴的一端与所述清洁单元相连接并带动其运动；以及

电源供应装置，其与所述电机相连接。

2.如权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述反应腔内包括一支撑装置，所述支撑装置包括一支持端或支持面，所述支撑单元的支撑面可分离地放置在所述支撑装置的支持端或支持面上。

3.如权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，还包括一控制器，用以控制所述电机的启动和关闭。

4.如权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述清洁单元包括一中空的空间，所述空间内部设置有一聚集物收集装置。

5.如权利要求4所述的清洁装置，其特征在于，所述清洁单元包括一第一连接板，所述第一连接板上设置有贯穿其上下表面的若干个通道，所述通道与所述聚集物收集装置相互流体连通。

6.如权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述反应腔的内表面包括所述反应腔内的一气体输送装置的气体输送表面。

7.如权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述反应腔的内表面包括所述反应腔的内侧壁。

8.如权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述支撑单元的内部包括一空腔，所述电机和/或电源供应装置设置在所述空腔内。

9.一种在基片上生长薄膜的反应装置，其特征在于，包括：

反应腔；

设置于所述反应腔内的一支撑装置，所述支撑装置包括一支持端或支持面；

基片托架，其用于传送所述基片和对所述基片提供支撑，所述基片托架可分离地放置在所述支撑装置的支持端或支持面上并且至少在所述生长薄膜的过程中保持与之接触，所述基片托架能够容易地从所述支撑装置上移开并被移出至所述反应腔外，以用于传送所述基片托架以装载或卸载所述基片；

清洁装置，其可分离地放置在所述支撑装置的支持端或支持面上并且至少在一清洁过程中保持与之接触，所述清洁装置能够容易地从所述支撑装置上移开并被移出至所述反应腔外，所述清洁装置包括：

支撑单元，其包括一支撑面；

清洁单元，其包括一面向所述反应腔的内表面的表面，所述表面上设置有若干刮擦部件；

电机，其设置于所述支撑单元上，所述电机包括一驱动轴，所述驱动轴的一端与所述清洁单元相连接并带动其运动；以及

电源供应装置，其与所述电机相连接。

10.如权利要求9所述的反应装置，其特征在于，所述反应腔内还包括一气体输送装置，其包括一气体输送表面，所述反应腔的内表面包括所述气体输送表面。

11.如权利要求9所述的反应装置，其特征在于，所述反应腔的内表面包括所述反应腔的内侧壁。

12.如权利要求9所述的反应装置，其特征在于，还包括一与所述反应腔内部相互流体连通的抽吸端口，所述抽吸端口与一排气泵或一吹风机相连接。

13.如权利要求12所述的反应装置，其特征在于，所述抽吸端口设置于所述反应腔的底部或侧壁。

14.如权利要求12所述的反应装置，其特征在于，所述抽吸端口设置于所述反应腔的侧壁上，并且位于靠近所述清洁装置的刮擦结构的一位置。

15.如权利要求12所述的反应装置，其特征在于，还包括一与所述抽吸端口相互流体连通的聚集物收集装置，用以将所述附着聚集物收集在一起。

16.如权利要求12所述的反应装置，其特征在于，所述清洁装置内部设置一与所述抽吸端口相互流体连通的聚集物收集装置，用以将所述附着聚集物收集在一起。

17.如权利要求9所述的反应装置，其特征在于，还包括一位于所述反应腔外部的机械传送装置，所述机械传送装置包括一机械传送手，其可选择性地将所述清洁装置或所述基片托架从所述反应腔外传送至所述反应腔内并放置在所述支撑装置上，或从所述支撑装置上移开再传送至所述反应腔外。