[发明专利]粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置有效
申请号: | 201110087462.8 | 申请日: | 2011-03-31 |
公开(公告)号: | CN102214494A | 公开(公告)日: | 2011-10-12 |
发明(设计)人: | 岩田高明 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | G21K5/00 | 分类号: | G21K5/00;G21K5/04;G21K3/00;A61N5/10 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 张鑫 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 粒子 射线 照射 装置 治疗 | ||
1.一种粒子射线照射装置,
包括扫描照射系统,并安装于使带电粒子束的照射方向旋转的旋转机架,所述扫描照射系统将由加速器进行了加速的所述带电粒子束进行扫描,其特征在于,
所述粒子射线照射装置包括柱状照射区生成装置,该柱状照射区生成装置扩大所述带电粒子束的布喇格峰值,来生成柱状的照射区。
2.如权利要求1所述的粒子射线照射装置,其特征在于,
所述柱状照射区生成装置包括:
能量改变装置,该能量改变装置改变所述带电粒子束的能量;以及
深度方向照射区扩大装置,该深度方向照射区扩大装置扩大所述带电粒子束的布喇格峰值。
3.如权利要求1所述的粒子射线照射装置,其特征在于,
所述柱状照射区生成装置包括深度方向照射区扩大装置,该深度方向照射区扩大装置扩大所述带电粒子束的布喇格峰值,
利用所述加速器改变所述带电粒子束的能量。
4.如权利要求2所述的粒子射线照射装置,其特征在于,
所述能量改变装置包括:
射程移位器,该射程移位器在所述带电粒子束所通过的方向上的厚度根据部位而不同,根据所述厚度降低所通过的带电粒子束的能量;
上游侧偏转电磁体对,该上游侧偏转电磁体对移动所述带电粒子束通过所述射程移位器的通过位置;
下游侧偏转电磁体对,该下游侧偏转电磁体对使得所述带电粒子束的轨道向入射到该能量改变装置的射束轴的方向返回;以及
改变控制装置,该改变控制装置控制所述上游侧偏转电磁体对及所述下游侧偏转电磁体对,以使得所述带电粒子束通过所述射程移位器的预定的厚度。
5.如权利要求2至4的任一项所述的粒子射线照射装置,其特征在于,
所述深度方向照射区扩大装置包括:
脊形过滤器,该脊形过滤器具有根据所述带电粒子束所通过的位置不同而损失的能量不同的厚度分布;
上游侧偏转电磁体对,该上游侧偏转电磁体对移动所述带电粒子束通过所述脊形过滤器的通过位置;
下游侧偏转电磁体对,该下游侧偏转电磁体对使得所述带电粒子束的轨道向入射到该深度方向照射区扩大装置的射束轴的方向返回;以及
照射区扩大控制装置,该照射区扩大控制装置控制所述上游侧偏转电磁体对及所述下游侧偏转电磁体对,以使得所述带电粒子束通过所述脊形过滤器的预定的厚度分布。
6.如权利要求2所述的粒子射线照射装置,其特征在于,
所述能量改变装置包括:
多个吸收体,该吸收体根据所述带电粒子束所通过的厚度而能量降低;
多个驱动装置,该驱动装置驱动各所述吸收体;以及
改变控制装置,该改变控制装置驱动所述驱动装置来控制所述带电粒子束通过的所述吸收体的总厚度。
7.如权利要求2、3、4及6的任一项所述的粒子射线照射装置,其特征在于,
所述深度方向照射区扩大装置包括:
多个脊形过滤器,该脊形过滤器根据所述带电粒子束通过的厚度来改变能量的宽度;
多个驱动装置,该驱动装置驱动各所述脊形过滤器;以及
照射区扩大控制装置,该照射区扩大控制装置驱动所述驱动装置来控制所述带电粒子束通过的所述脊形过滤器的总厚度。
8.如权利要求1所述的粒子射线照射装置,其特征在于,
所述柱状照射区生成装置包括:
射程移位器,该射程移位器在所述带电粒子束所通过的方向上的厚度根据部位而不同,根据所述厚度降低所通过的带电粒子束的能量;
脊形过滤器,该脊形过滤器配置于所述射程移位器的下游侧,具有根据所述带电粒子束所通过的位置不同而损失的能量不同的厚度分布;
上游侧偏转电磁体对,该上游侧偏转电磁体对移动所述带电粒子束通过所述射程移位器及所述脊形过滤器的通过位置;
下游侧偏转电磁体对,该下游侧偏转电磁体对使得所述带电粒子束的轨道向入射到该柱状照射区生成装置的射束轴的方向返回;以及
改变控制装置,该改变控制装置控制所述上游侧偏转电磁体对及所述下游侧偏转电磁体对,以使得所述带电粒子束通过所述射程移位器的预定的厚度及所述脊形过滤器的预定的厚度分布。
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