[发明专利]包含扁平金属颗粒的组合物和热射线屏蔽材料有效

专利信息
申请号: 201110087586.6 申请日: 2011-04-06
公开(公告)号: CN102249548A 公开(公告)日: 2011-11-23
发明(设计)人: 舟洼健;细谷阳一 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: C03C17/06 分类号: C03C17/06
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 苗征;于辉
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 包含 扁平 金属 颗粒 组合 射线 屏蔽 材料
【说明书】:

技术领域

本发明涉及包含扁平金属颗粒的组合物,其适用于如热射线反射膜、红外线反射膜、可见光反射膜、热射线吸收膜、红外线吸收膜和选择性反射膜;还涉及选择性反射和吸收热射线的热射线屏蔽材料。

背景技术

纳米颗粒具有小于光波长的尺寸,并由此作为具有低光散射的材料而受人关注。在各种领域中尤其已对金属纳米颗粒进行研究,因为它们具有导电性、导热性、良好的折射率、催化活性及其它性质。

金属纳米颗粒具有大表面积,并经常产生带来问题的腐蚀和迁移。例如,美国专利申请2007/0074316公开了芳族三唑化合物等有利地作为Ag纳米线的腐蚀抑制剂。

此外,日本专利申请公开(JP-A)2009-146678公开了苯并三唑化合物有利地作为迁移抑制剂。

这些现有技术文献提供了当将Ag用作导电材料时对造成绝缘的迁移或腐蚀抑制的解决方案。但是,它们既没有公开,也没有暗示本发明所示的有关耐光性的稳定性。

另外,日本专利(JP-B)3594803公开了通过将贵金属胶体与树脂混合而利用贵金属的等离激元吸收的涂料。JP-B 3594803既没有公开,也没有暗示贵金属纳米颗粒的等离激元是耐光性不稳定的,这是因为在所述贵金属胶体中没有使用特定的耐光性改进剂。

因此,目前对于提供包含扁平金属颗粒的组合物和热射线屏蔽材料的需求增大,在所述组合物中,扁平金属颗粒更稳定地存在,并且可避免因光造成的等离激元反射的下降;所述热射线屏蔽材料具有对反射波长或区域的高选择性,具有极佳的对可见光和无线电波的透射率,并具有极佳的耐光性。

发明内容

本发明旨在提供包含扁平金属颗粒的组合物和热射线屏蔽材料,在扁平金属颗粒的组合物中,扁平金属颗粒更稳定地存在,并且可避免因光造成的等离激元反射的下降,并且其可适用于如热射线反射膜、红外线反射膜、可见光反射膜、热射线吸收膜、红外线吸收膜和选择性反射膜;热射线屏蔽材料具有对反射光波长或区域的高选择性,具有极佳的对可见光和无线电波的透射率,并具有极佳的耐光性。

为了解决上述存在的问题,本发明人对利用等离激元反射的反射膜进行了研究,并已发现纳米尺度的贵金属颗粒(包括扁平的金属纳米颗粒)的耐光性下降。贵金属纳米颗粒的耐光性下降的可能原因在于因随比表面积的增大而增大的表面能量所造成的稳定性的下降。在该情况中,通过向组合物中加入大量的树脂难以保护贵金属。由此,本发明进行了广泛研究,结果发现通过向扁平金属颗粒中加入具有-1mV或更低的银相互作用电势EAg的杂环化合物提高了扁平金属颗粒的稳定性,可避免因光造成的等离激元反射的下降,并可达到更佳的耐光性。

本发明基于本发明人的上述发现。解决上述问题的手段如下。

<1>包含扁平金属颗粒的组合物,其包含:

扁平金属颗粒和

杂环化合物,

其中所述杂环化合物具有低于-1mV的银相互作用电势EAg。

<2>根据<1>所述的包含扁平金属颗粒的组合物,其中所述杂环化合物的银相互作用电势EAg为-300mV或更高,且低于-1mV。

<3>根据<1>所述的包含扁平金属颗粒的组合物,其中所述扁平金属颗粒包含银、金、铜或它们的合金。

<4>根据<1>-<3>中任一项所述的包含扁平金属颗粒的组合物,其中所述扁平金属颗粒包含银。

<5>热射线反射膜,其包含:根据<1>-<4>中任一项所述的包含扁平金属颗粒的组合物。

<6>红外线反射膜,其包含:根据<1>-<4>中任一项所述的包含扁平金属颗粒的组合物。

<7>热射线吸收膜,其包含:根据<1>-<4>中任一项所述的包含扁平金属颗粒的组合物。

<8>红外线吸收膜,其包含:根据<1>-<4>中任一项所述的包含扁平金属颗粒的组合物。

<9>选择性反射膜,其包含:根据<1>-<4>中任一项所述的包含扁平金属颗粒的组合物。

<10>热射线屏蔽材料,其包含:根据<1>-<4>中任一项所述的包含扁平金属颗粒的组合物。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社,未经富士胶片株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110087586.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top