[发明专利]基于小波域增强型图像掩膜的水印嵌入方法及装置有效

专利信息
申请号: 201110088398.5 申请日: 2011-04-11
公开(公告)号: CN102142130A 公开(公告)日: 2011-08-03
发明(设计)人: 高新波;安玲玲;李洁;邓成;张一凡;黄东宇 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: G06T1/00 分类号: G06T1/00
代理公司: 陕西电子工业专利中心 61205 代理人: 王品华;朱红星
地址: 710071*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 基于 小波域 增强 图像 水印 嵌入 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种基于小波域增强型图像掩膜的水印嵌入方法,包括如下步骤:

(1)将输入图像I进行4级小波分解,得到一组小波分解子带序列Q;

(2)提取子带序列Q中的低频子带,得到一组低频子带序列QA

(3)利用低频子带序列QA计算子带序列Q中不同小波分解尺度下小波系数的亮度掩膜,得到一组亮度掩膜序列B:

B={Bk(m,n)}]]>

其中,为第k级小波分解尺度下低频子带、水平子带、垂直子带和对角子带中位于(m,n)处的小波系数的亮度掩膜,

Bk(m,n)=max{Vk(m,n),Sk(m,n)}]]>

其中,1≤k≤4,1≤m≤p,1≤n≤q,p*q表示子带的大小,

为第k级小波分解尺度下低频子带中位于(m,n)处的小波系数的可见性阈值,

其中,为第k级小波分解尺度下低频子带中位于(m,n)处的小波系数的平均背景亮度,

Gk(m,n)=132Σi=15Σj=15Qk,a(m-3+i,n-3+j)*L(i,j)]]>

其中,i、j、m′和n′为控制变量,1≤i≤5,1≤j≤5,m′=m+2,n′=n+2,Q′k,a表示延拓低频子带,Q′k,a(m′-3+i,n′-3+j)为Q′k,a中第m′-3+i行第n′-3+j列的小波系数,L(i,j)是低通加权算子L中第i行第j列的权值,L表示为:

L=1111112221120211222111111]]>

表示第k级小波分解尺度下低频子带中位于(m,n)处的小波系数的空域掩膜,

Sk(m,n)=Dk(m,n)*(Gk(m,n)*0.0001+0.115)+(0.5-Gk(m,n)*0.01)]]>

其中,为第k级小波分解尺度下低频子带中位于(m,n)处的小波系数的亮度变化的最大加权平均,

Dk(m,n)=maxx=1,2,3,4{|k,x(m,n)|}]]>

其中,是第k级小波分解尺度下低频子带中位于(m,n)处的小波系数沿x方向的亮度变化,

k,x(m,n)=116Σi=15Σj=15Qk,a(m-3+i,n-3+j)*Rx(i,j)]]>

其中,Rx(i,j)是方向加权因子Rx在(i,j)处的权值,1≤x≤4;

(4)提取子带序列Q中的高频子带,得到一组高频子带序列QT

(5)利用输入图像I和高频子带序列QT计算子带序列Q中不同小波分解尺度下小波系数的纹理掩膜,得到一组纹理掩膜序列X;

(6)根据不同小波分解尺度下小波系数所在的子带确定子带序列Q中不同小波分解尺度下小波系数的方向掩膜,得到一组方向掩膜序列E:

E={Ek,a,Ek,h,Ek,v,Ek,d}

其中,Ek,a是第k级小波分解尺度下低频子带中所有小波系数的方向掩膜,取1,Ek,h是第k级小波分解尺度下水平子带中所有小波系数的方向掩膜,取1,Ek,v是第k级小波分解尺度下垂直子带中所有小波系数的方向掩膜,取1,Ek,d是第k级小波分解尺度下对角子带中所有小波系数的方向掩膜,取1≤k≤4;

(7)根据亮度掩膜序列B、纹理掩膜序列X和方向掩膜序列E,计算子带序列Q中不同小波分解尺度下小波系数的恰可失真门限,得到一组恰可失真门限序列J:

J={Jk,y(m,n)}]]>

其中,为第k级小波分解尺度下y子带中位于(m,n)处的小波系数的恰可失真门限,

Jk,y(m,n)=Ek,y*(Bk(m,n))β*(Xk(m,n))0.2]]>

其中,1≤k≤4,1≤m≤p,1≤n≤q,p*q表示y子带的大小,y分别取低频子带、水平子带、垂直子带和对角子带,Ek,y是第k级小波分解尺度下y子带中每个小波系数的方向掩膜,是第k级小波分解尺度下低频子带、水平子带、垂直子带和对角子带中位于(m,n)处的小波系数的亮度掩膜,0<β≤1是调节因子,控制亮度掩膜的强度,是第k级小波分解尺度下低频子带、水平子带、垂直子带和对角子带中位于(m,n)处的小波系数的纹理掩膜;

(8)利用得到的恰可失真门限序列J控制水印嵌入强度,将水印信息嵌入到输入图像I中,得到含水印图像I′。

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