[发明专利]镀膜件的制备方法及由该方法制得的镀膜件无效
| 申请号： | 201110091357.1 | 申请日： | 2011-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN102732881A | 公开（公告）日： | 2012-10-17 |
| 发明（设计）人： | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;戴龙文;林顺茂 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C28/04 | 分类号： | C23C28/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 镀膜 制备 方法 法制 | ||
1.一种镀膜件的制备方法，其包括如下步骤：
提供透明的玻璃基材；
采用溅射法在该玻璃基材的表面沉积金属锡，溅射时玻璃基材温度为230~300℃；
对玻璃基材表面的金属锡进行热氧化处理形成氧化锡；
继续采用溅射法在氧化锡的表面沉积氧化铝，所述氧化锡和氧化铝形成的复合膜层形成一色彩层，该色彩层透过所述玻璃基材于CIE Lab表色系统显示的L*坐标介于80至89之间，a*坐标介于-0.5至0.5之间，b*坐标介于-0.5至0.5之间。
2.如权利要求1所述的镀膜件的制备方法，其特征在于：该色彩层透过所述透明的玻璃基材观察呈现白色。
3.如权利要求1所述的镀膜件的制备方法，其特征在于：所述沉积金属锡的步骤的具体工艺参数为：以氩气为工作气体，氩气流量为100~500sccm，使用锡靶，锡靶的功率为5~12kW，施加于玻璃基材的偏压为-30~-50V，溅射时间为5~20min。
4.如权利要求1所述的镀膜件的制备方法，其特征在于：所述热氧化处理的步骤的具体工艺参数为：氧气的流量100~500sccm，玻璃基材的温度为230~300℃，处理时间为10~40min。
5.如权利要求1所述的镀膜件的制备方法，其特征在于：所述热氧化处理形成的氧化锡为纳米微球状。
6.如权利要求1所述的镀膜件的制备方法，其特征在于：所述沉积氧化铝的步骤的具体工艺参数为：以氩气为工作气体，氩气流量为100~500sccm；以氧气为反应气体，氧气流量为50~100sccm；使用铝靶，铝靶的功率为5~12kW，施加于玻璃基材的偏压为-50~-100V，溅射温度为120~180℃，溅射时间为20~40min。
7.如权利要求1所述的镀膜件的制备方法，其特征在于：所述色彩层的厚度为0.2~1.0μm。
8.一种镀膜件，其包括基材及形成于基材一表面的色彩层，其特征在于：该基材为透明的玻璃，该色彩层为氧化锡和氧化铝组成的复合膜层，该色彩层透过所述基材于CIE Lab表色系统显示的L*坐标介于80至89之间，a*坐标介于-0.5至0.5之间，b*坐标介于-0.5至0.5之间。
9.如权利要求8所述的镀膜件，其特征在于：透过所述基材观察所述色彩层呈现白色。
10.如权利要求8所述的镀膜件，其特征在于：所述色彩层的厚度为0.2~1.0μm。
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