[发明专利]一种氮化物发光二极管结构无效

专利信息
申请号: 201110092100.8 申请日: 2011-04-13
公开(公告)号: CN102738315A 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: 李志翔;吴东海 申请(专利权)人: 南通同方半导体有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100083 北京市*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 氮化物 发光二极管 结构
【权利要求书】:

1.一种氮化物发光二极管结构,它包括衬底(20)、形成于衬底(20)上的低温缓冲层(21)和发光半导体结构,所述发光半导体结构包括N型半导体层(22)、发光层(23)和P型半导体层(24),P型半导体层(24)的上方为透明导电层(25),透明导电层(25)上的一端置有P型电极(262),N型氮化镓层(22)上、与P型电极(262)相对的另一端置有N型电极(261);其特征在于,所述低温缓冲层(21)和N型半导体层(22)之间不设置非掺杂化合物半导体层。

2.根据权利要求1所述的氮化物发光二极管结构,其特征在于,所述衬底(20)采用蓝宝石、碳化硅、硅、砷化镓、氮化铝和氮化镓衬底材料中的一种。

3.根据权利要求1或2所述的氮化物发光二极管结构,其特征在于,所述低温缓冲层(21)为数层氮化金属层,由有机金属原料与氨气于高温下反应形成,具体可为氮化镓、氮化铝、氮化铟、氮化铟镓、氮化铝镓或者氮化铝铟镓组成的单一结构或者复合结构,其中各氮化金属层的厚度范围在0.1-100纳米之间。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南通同方半导体有限公司,未经南通同方半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110092100.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top