[发明专利]Co-P薄膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 201110092400.6 申请日: 2011-04-13
公开(公告)号: CN102181897A 公开(公告)日: 2011-09-14
发明(设计)人: 卢年端;李亮亮;蔡坚;李燕秋 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: C25D5/18 分类号: C25D5/18;C25D5/20;C25D3/56
代理公司: 北京康盛知识产权代理有限公司 11331 代理人: 张良
地址: 100084*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: co 薄膜 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种Co-P薄膜的制备方法,包括:

分别制备电解液、钴片和基片;

将多相脉冲电源的阳极与所述钴片连接,将多相脉冲电源的阴极与所述基片相连接,将所述钴片和基片浸没在所述电解液中;

将含有所述钴片和基片的所述电解液放置在超声波振动器中,用所述超声波振动器和多相脉冲电源进行电镀。

2.如权利要求1所述的Co-P薄膜的制备方法,其特征在于,所述电解液成分包括:180-200g/L的CoCl2·6H2O、1-3g/L的CoCO3、1.5-4g/L的H3PO4和1.5-4g/L的H3PO3

3.如权利要求1所述的Co-P薄膜的制备方法,其特征在于,所述电解液成分包括:180-200g/L的CoCl2·6H2O、5-40g/L的CoCO3、8-50g/L的H3PO4和8-30g/L的H3PO3

4.如权利要求1所述的Co-P薄膜的制备方法,其特征在于,所述电解液的pH值在1.10-1.25之间。

5.如权利要求1所述的一种Co-P薄膜的制备方法,其特征在于,所述钴片的纯度为99.95%,所述基片包括Cu(200nm)/Ti(50nm)/SiO2(300nm)/Si。

6.如权利要求1所述的Co-P薄膜的制备方法,其特征在于,所述钴片和基片保持平行等高并完全浸没在所述电解液中,所述基片的Cu薄膜与所述钴片相对,所述钴片和基片之间的保持3-5cm。

7.如权利要求1所述的Co-P薄膜的制备方法,其特征在于,所述超声波振动器的温度为68-70℃,所述超声波振动器的水深为5cm。

8.如权利要求1所述的Co-P薄膜的制备方法,其特征在于,将含有所述钴片和基片的电解液放置在所述超声波振动器中保温10-15分钟。

9.如权利要求1所述的Co-P薄膜的制备方法,其特征在于,所述超声波振动器的功率为40-80W,所述多相脉冲电流的正极电流密度为50mA/cm2,负极电流密度分别为0mA/cm2至-17.5mA/cm2,所述多相脉冲电流的正负电流的工作时间分别为100ms和10ms。

10.如权利要求1所述的Co-P薄膜的制备方法,其特征在于,所述电镀的时间为30秒至60分钟。

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