[发明专利]Co-P薄膜的制备方法有效
申请号: | 201110092400.6 | 申请日: | 2011-04-13 |
公开(公告)号: | CN102181897A | 公开(公告)日: | 2011-09-14 |
发明(设计)人: | 卢年端;李亮亮;蔡坚;李燕秋 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | C25D5/18 | 分类号: | C25D5/18;C25D5/20;C25D3/56 |
代理公司: | 北京康盛知识产权代理有限公司 11331 | 代理人: | 张良 |
地址: | 100084*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | co 薄膜 制备 方法 | ||
1.一种Co-P薄膜的制备方法,包括:
分别制备电解液、钴片和基片;
将多相脉冲电源的阳极与所述钴片连接,将多相脉冲电源的阴极与所述基片相连接,将所述钴片和基片浸没在所述电解液中;
将含有所述钴片和基片的所述电解液放置在超声波振动器中,用所述超声波振动器和多相脉冲电源进行电镀。
2.如权利要求1所述的Co-P薄膜的制备方法,其特征在于,所述电解液成分包括:180-200g/L的CoCl2·6H2O、1-3g/L的CoCO3、1.5-4g/L的H3PO4和1.5-4g/L的H3PO3。
3.如权利要求1所述的Co-P薄膜的制备方法,其特征在于,所述电解液成分包括:180-200g/L的CoCl2·6H2O、5-40g/L的CoCO3、8-50g/L的H3PO4和8-30g/L的H3PO3。
4.如权利要求1所述的Co-P薄膜的制备方法,其特征在于,所述电解液的pH值在1.10-1.25之间。
5.如权利要求1所述的一种Co-P薄膜的制备方法,其特征在于,所述钴片的纯度为99.95%,所述基片包括Cu(200nm)/Ti(50nm)/SiO2(300nm)/Si。
6.如权利要求1所述的Co-P薄膜的制备方法,其特征在于,所述钴片和基片保持平行等高并完全浸没在所述电解液中,所述基片的Cu薄膜与所述钴片相对,所述钴片和基片之间的保持3-5cm。
7.如权利要求1所述的Co-P薄膜的制备方法,其特征在于,所述超声波振动器的温度为68-70℃,所述超声波振动器的水深为5cm。
8.如权利要求1所述的Co-P薄膜的制备方法,其特征在于,将含有所述钴片和基片的电解液放置在所述超声波振动器中保温10-15分钟。
9.如权利要求1所述的Co-P薄膜的制备方法,其特征在于,所述超声波振动器的功率为40-80W,所述多相脉冲电流的正极电流密度为50mA/cm2,负极电流密度分别为0mA/cm2至-17.5mA/cm2,所述多相脉冲电流的正负电流的工作时间分别为100ms和10ms。
10.如权利要求1所述的Co-P薄膜的制备方法,其特征在于,所述电镀的时间为30秒至60分钟。
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