[发明专利]一种基板、液晶显示面板及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201110092739.6 申请日: 2011-04-13
公开(公告)号: CN102736294A 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: 李宏彦 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京北旭电子玻璃有限公司
主分类号: G02F1/1333 分类号: G02F1/1333;G02F1/136;C03C17/34
代理公司: 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 代理人: 张颖玲;王黎延
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 液晶显示 面板 及其 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及平板显示技术领域,尤其涉及一种基板、液晶显示面板及其制造方法。

背景技术

随着现代科技的发展,近年来电子显示产品得到迅猛发展,先进的平板显示产品层出不穷,尺寸由小到大,小到手机、PDA产品,大到电视及平面广告媒体机。平板显示产品包括等离子电视、液晶电视、笔记本、提款机、手机、PDA、PSP、信息查询机、媒体广告播放机等,因此用于平板显示产品的平面显示面板的需求也在不断增加,平面显示面板包括液晶显示面板(LCD)、等离子显示面板(PDP)、以及有机发光二极管(OLED)等等,其中LCD在大批量生产工艺、操作方便的驱动方式、以及容易实现高质量等方面获得广泛认可。

平面显示面板都由玻璃材料作为其成像系统的关键材料,但是该类玻璃并没有进行玻璃强化处理,尤其在用薄玻璃制造的LCD中,由于跌落冲击或重量的压力,裂纹常常发生在玻璃中。国际上已经进行了长时间的研究,将LCD的玻璃基板改变为由塑料或聚合物薄膜制成的基板。然而,在塑料基板或薄膜基板上要形成的气体阻隔层的可靠性不够,难以形成大规模应用。

为了防止平面显示面板日益超薄所导致抗冲击能力下降的问题,现有技术中,可以采用透明触摸面板等透明盖板与平面显示面板结合,确保硬度,例如使用透明塑料或钢化玻璃作为透明盖板。

而在实际中,较常使用的透明盖板为通过化学钢化技术得到的钢化玻璃,其中化学钢化技术能够保证玻璃钢化后的光学质量,并可进行适当地裁切、磨边、钻孔等冷加工,是超薄玻璃唯一实用的增强技术。化学钢化玻璃较之物理钢化玻璃而言,即使它的内部张应力层破坏时,也不像物理钢化玻璃那样碎成小片。但是化学钢化玻璃随时间容易产生应力松弛的现象。

而面对平面显示面板日益超薄化的要求,若为了省去透明盖板对平面显示面板的保护,利用化学钢化玻璃进行超薄平面显示面板的制作时,由于化学钢化玻璃表面碱含量较高,会损害面板的寿命;而且,平面显示面板大生产线都是在大块玻璃板上直接作出多块显示面板,然后进行裁切得到多块单片显示面板,但化学钢化玻璃在实际使用时,为防止裁切后边部应力释放,强度丧失,往往会采用先裁切后化学钢化的处理流程,这与平面显示面板生产线相冲突,因此,现有技术中,化学钢化玻璃仍是较多作为平面显示面板的保护盖板玻璃进行使用。

但由于使用化学钢化玻璃作为透明盖板,虽然增加了平面显示面板的强度,但是当施加的压力增大时,平面显示面板可能在化学钢化玻璃断裂前已经断裂,而且,额外增加的化学钢化玻璃还会使平面显示面板的厚度和重量大大增加,生产成本较高。

发明内容

有鉴于此,本发明的主要目的在于提供一种基板、液晶显示面板及其制造方法,能够在减少液晶显示面板厚度的同时,提高强度。

为达到上述目的,本发明的技术方案是这样实现的:

一种基板,所述基板包括基板玻璃、碱离子阻挡层、及基板功能层;其中,

所述碱离子阻挡层,披覆于所述基板玻璃上,用于阻挡基板玻璃的碱离子扩散到所述基板功能层;

基板功能层,制备于所述碱离子阻挡层上。

优选地,所述碱离子阻挡层的膨胀系数低于所述基板玻璃的膨胀系数。

其中,所述基板玻璃为普通含碱玻璃或化学钢化玻璃;和/或,

所述碱离子阻挡层为二氧化硅膜层或氮化硅膜层。

优选地,所述基板玻璃为化学钢化的浮法玻璃时,所述碱离子阻挡层披覆于所述浮法玻璃的锡面。

一种基板制造方法,所述方法包括:

对基板玻璃进行碱离子阻挡层的披覆;

将基板功能层制备到所述碱离子阻挡层上。

优选地,所述对基板玻璃进行碱离子阻挡层的披覆为:

在温度介于室温和350摄氏度之间,对基板玻璃进行时间小于或等于30分钟的碱离子阻挡层的披覆;其中,所述基板玻璃为普通含碱玻璃或化学钢化玻璃。

进一步地,在所述对基板玻璃进行碱离子阻挡层的披覆之前,所述方法还包括:

对基板玻璃进行氢氟酸、氯化亚锡、或氯化锌处理,减弱所述基板玻璃的K+、Na+离子扩散到所述碱离子阻挡层的能力;其中,所述基板玻璃为普通含碱玻璃或化学钢化玻璃。

进一步地,当基板玻璃为化学钢化浮法玻璃时,所述对基板玻璃进行碱离子阻挡层的披覆为:

在化学钢化浮法玻璃的锡面进行碱离子阻挡层的披覆。

进一步地,在将基板功能层制作到所述碱离子阻挡层上之前,所述方法还包括:

对所述碱离子阻挡层进行抛光。

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