[发明专利]一种制备掩埋式光波导的方法

权利要求书

1.一种制备掩埋式光波导的方法，其特征在于，该方法包括：

在玻璃基片(1)的表面上制作掩膜(2)，在掩膜(2)上形成离子交换窗口；

利用离子交换处理该带有掩膜(2)的玻璃基片(1)；

清洗并去掉表面的掩膜(2)；

在玻璃基片(1)的表面淀积一层低折射率材料(5)，形成掩埋式光波导。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，该离子交换是将带有掩膜(2)的玻璃基片(1)放入含有高极化率离子的熔盐中进行离子交换。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，玻璃基片上掩膜(2)所在的一侧接触的熔盐(3)和相对一侧接触的熔盐(4)之间电绝缘。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，该离子交换过程中，以掩膜(2)所在的一侧接触的熔盐(3)为正极，以相对一侧接触的熔盐(4)为负极施加电场。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，该熔盐(3、4)含有高极化率离子，其选自包括Tl⁺、Ag⁺、Li⁺、Cs⁺、Rb⁺或Cu⁺的组。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，该熔盐(3、4)含有选自包括NO₃^-、CO₃^2-、SO₄^2-或Cl^-的组的阴离子。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，玻璃基片(1)是掺杂稀土离子或不掺杂稀土离子的硅酸盐玻璃、磷酸盐玻璃或硼酸盐玻璃之一。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，掩膜(2)的材料选自Al、Ti、Ni或SiO₂。

9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，该低折射率材料(5)是二氧化硅或聚合物材料。