[发明专利]微孔抛光垫有效
| 申请号： | 201110093293.9 | 申请日： | 2003-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN102189506A | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | 阿巴尼什瓦·普拉萨德 | 申请（专利权）人： | 卡伯特微电子公司 |
| 主分类号： | B24D13/00 | 分类号： | B24D13/00;B24D3/32;B24B39/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 宋莉 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 微孔 抛光 | ||
【权利要求书】：
1.一种供化学-机械抛光的抛光垫，包括具有平均孔径为50微米或更小的热塑性聚氨基甲酸酯发泡体，其中热塑性聚氨基甲酸酯的熔体流动指数(MFI)为20或更小，分子量为50,000克/摩尔至300,000克/摩尔，及多分散度指数为1.1至6。
2.权利要求1的抛光垫，其中聚氨基甲酸酯发泡体的挠性模量为350MPa至1000MPa。
3.权利要求1的抛光垫，其中热塑性聚氨基甲酸酯的流变加工指数在150升/秒的剪切速率及205℃的温度下为2至10。
4.一种供化学-机械抛光的聚氨基甲酸酯抛光垫，其可在至少600埃/分钟的速率以载体向下压力0.028MPa、浆液流速100毫升/分钟、平盘旋转速度60rpm、及载体旋转速度55rpm至60rpm下，抛光二氧化硅晶圆，其中抛光垫不含有磨料颗粒且不包括外部产生的表面纹理。
5.权利要求4的抛光垫，其中该抛光垫具有5％或更小的空隙体积。
6.权利要求4的抛光垫，其中该抛光垫包括具有平均孔径为50微米或更小的孔隙。
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