[发明专利]正型放射线敏感性组合物、层间绝缘膜及其形成方法

权利要求书

1.一种正型放射线敏感性组合物，其包括：[A]在一同或不同聚合物分子中具有包含下述式(1)所示的基团的结构单元和含环氧基的结构单元的聚合物；

[B]光酸产生剂；以及

[C]从含受阻酚结构的化合物、含受阻胺结构的化合物、含亚磷酸烷基酯结构的化合物以及含硫醚结构的化合物构成的群组中选出的一种或两种以上化合物，

式(1)中，R¹和R²各自独立地是氢原子、烷基、环烷基或芳基，这些烷基、环烷基或芳基的氢原子的一部分或全部可以被取代基团取代，其中，不包括R¹和R²都是氢原子的情形，R³是烷基、环烷基、芳烷基、芳基或-M(R^3m)₃所示的基团，M是Si、Ge或Sn，R^3m是烷基，这些的氢原子的一部分或全部可以被取代基团取代，R¹和R³可以连接形成环状醚。

2.如权利要求1所述的正型放射线敏感性组合物，其特征在于，[B]光酸产生剂含有下述式(2)所表示的肟磺酸酯基，

式(2)中，R^B1表示烷基、环烷基或芳基，这些基团的氢原子的一部分或全部可以被取代基取代。

3.如权利要求1或2所述的正型放射线敏感性组合物，其特征在于，相对于100质量份[A]聚合物，[C]化合物的含量在0.1质量份以上、10质量份以下。

4.如权利要求1或2所述的正型放射线敏感性组合物，其特征在于，该组合物用于形成显示元件用的层间绝缘膜。

5.一种显示元件用层间绝缘膜的形成方法，具有下述工序：

(1)将在权利要求4所记载的正型放射线敏感性组合物的涂膜形成于基板上的工序；

(2)对在工序(1)形成的涂膜的至少一部分照射放射线的工序；

(3)对在工序(2)中照射了放射线的涂膜进行显影的工序；以及

(4)对在工序(3)显影的涂膜进行加热的工序。

6.一种显示元件用的层间绝缘膜，由权利要求4所记载的正型放射线敏感性组合物形成。