[发明专利]电沉积强化低熔点金属熔射模的方法有效
| 申请号： | 201110095031.6 | 申请日： | 2011-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN102154676A | 公开（公告）日： | 2011-08-17 |
| 发明（设计）人： | 曾好平;李洪友;张认成;石育英 | 申请（专利权）人： | 华侨大学 |
| 主分类号： | C25D15/00 | 分类号： | C25D15/00;C25D5/18;C25D5/08;C25D5/20;C25D5/34 |
| 代理公司： | 泉州市文华专利代理有限公司 35205 | 代理人： | 张梧邨 |
| 地址： | 362000 福*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 沉积 强化 熔点 金属 熔射模 方法 | ||
1.一种电沉积强化低熔点金属熔射模的方法，其特征在于：先对低熔点金属熔射模进行除油、除锈和活化前处理，然后将该低熔点金属熔射模放入含纳米陶瓷粉末的电沉积槽中进行电沉积。
2.如权利要求1所述的电沉积强化低熔点金属熔射模的方法，其特征在于：所述低熔点金属熔射模的表面上的熔射层为铝合金、锌合金或锌铝合金所形成的金属层。
3.如权利要求1所述的电沉积强化低熔点金属熔射模的方法，其特征在于：所述除油步骤中，用含有氢氧化钠、碳酸钠、磷酸三钠和乳化剂的碱性溶液进行化学除油处理。
4.如权利要求1所述的电沉积强化低熔点金属熔射模的方法，其特征在于：所述活化步骤中，用稀硫酸或稀盐酸溶液进行活化处理。
5.如权利要求1所述的电沉积强化低熔点金属熔射模的方法，其特征在于：所述电沉积步骤中，阳极为镍、钴、铁、镍钴合金、镍铁合金和钴铁合金中的一种或多种，阴极则为所述低熔点金属熔射模。
6.如权利要求1或5所述的电沉积强化低熔点金属熔射模的方法，其特征在于：所述电沉积步骤中，用双向高频脉冲电源进行电沉积。
7.如权利要求1所述的电沉积强化低熔点金属熔射模的方法，其特征在于：所述纳米陶瓷粉末为三氧化二铝(Al2O3)、氧化锆(ZrO2)和氮化硅中的一种或多种。
8.如权利要求1所述的电沉积强化低熔点金属熔射模的方法，其特征在于：所述电沉积步骤中，对电沉积液进行机械搅拌、电磁搅拌或超声搅拌。
9.如权利要求1所述的电沉积强化低熔点金属熔射模的方法，其特征在于：所述低熔点金属熔射模上的电沉积层的厚度为0.01～0.05mm。
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