[发明专利]快速热处理设备的监测方法

权利要求书

1.一种快速热退火设备的监测方法，其特征在于，所述方法包括：

提供多个产品晶圆，所述产品晶圆用于制造所需要的集成电路，每个所述产品晶圆均具有多个管芯；

所述管芯包括焊盘区域，所述焊盘区域用于将所述管芯与外部电路电连接；

将多个所述产品晶圆置于离子注入设备中，进行离子注入；

在进行离子注入之后，将多个所述产品晶圆置于快速热退火设备中，对多个所述产品晶圆进行快速热退火处理；

在快速热退火处理后，进行数据测量步骤；

其中，所述数据测量步骤包括：

在进行快速热退火后，取出多个所述产品晶圆中的任意一个或多个，测量取出的所述产品晶圆的管芯内的所述焊盘区域的热波数据，接着，将所述热波数据送入统计过程控制设备，通过对所述热波数据的统计和分析，从而监测所述快速热退火设备的状态。

2.如权利要求1所述的快速热退火设备的监测方法，其特征在于，多个所述产品晶圆分不同批次进行快速热退火，在每一个批次快速热退火后，均进行所述数据测量步骤。

3.如权利要求1所述的快速热退火设备的监测方法，其特征在于，多个所述产品晶圆分不同批次进行快速热退火，在每5个或10个批次快速热退火后，进行一次所述数据测量步骤。

4.如权利要求1所述的快速热退火设备的监测方法，其特征在于，在所述快速热退火设备每连续运行2、3或4小时后，进行一次所述数据测量步骤。