[发明专利]喷墨记录介质有效

专利信息
申请号: 201110098408.3 申请日: 2011-04-20
公开(公告)号: CN102248828A 公开(公告)日: 2011-11-23
发明(设计)人: 野口哲朗;加茂久男;仁藤康弘;小栗勲;田栗亮;苏秀儿;八田直也 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: B41M5/00 分类号: B41M5/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 李帆
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 喷墨 记录 介质
【说明书】:

技术领域

本发明涉及喷墨记录介质。

背景技术

喷墨记录介质通常包括支持基材和其上设置的墨接受层,该墨接受层具有用粘结剂例如聚(乙烯醇)(PVA)将颜料例如二氧化硅或水合氧化铝保持的多孔结构。要求如上所述的喷墨记录介质改善墨吸收性、显色性、耐泛金光(bronzing)性等。

日本专利公开No.2006-110771公开了喷墨记录介质,其在支持基材上具有至少两个均含有细二氧化硅颗粒的墨接受层。该记录介质中,至少一个远离该支持基材的墨接受层含有水溶性锆化合物,并且水溶性铝化合物不均匀地分布在整个墨接受层中且更浓密地分布在其更靠近该支持基材的部分中。

发明内容

在记录介质上连续进行的高速打印中,将记录介质在两辊之间夹持的同时进行搬运时要求改善搬运精度。为了改善搬运精度,必须使用在其间夹持纸时不易变形的硬辊。将上述硬辊用于搬运时,例如,由于辊形成的压痕(辊痕(roller mark)),会使记录介质的质量降低。特别地,由于高湿度环境中的水分吸收,墨接受层溶胀并软化,因此容易产生辊痕。

本发明人通过使用喷墨打印机在日本专利公开No.2006-110771中公开的记录介质上进行打印,从而对辊痕进行研究。结果,在一些情况下,在高湿度环境中产生辊痕。

用交联剂使墨接受层中的粘结剂充分交联时,能够抑制辊痕的产生;但是,单纯地增加交联剂时,墨接受层抗弯曲的柔韧性倾向于降低。此外,由于近年的喷墨打印机已不断地小型化,因此倾向于采用记录介质的纸搬运通路具有非常高的曲率的搬运系统。因此,用喷墨打印机进行打印时,在搬运纸的步骤中,记录介质在非常高的曲率下弯曲,特别地,在低湿度环境中进行打印时,在墨接受层中不利地产生开裂(弯曲开裂)。

因此,本发明提供喷墨记录介质,其在改善墨吸收性、显色性和耐泛金光性的同时,抑制辊痕的产生和弯曲开裂的产生。

根据本发明的喷墨记录介质包括:支持基材;和设置在该支持基材上的至少两个墨接受层,其中该至少两个墨接受层中的两个墨接受层均含有选自氧化铝和水合氧化铝中的至少一种、聚(乙烯醇)、选自硼酸和硼酸盐中的至少一种和水溶性锆化合物,并且接近该支持基材的两个墨接受层之一的硼酸、硼酸盐和水溶性锆盐的总含量:其氧化铝和水合氧化铝的总含量高于远离该支持基材的另一墨接受层的硼酸、硼酸盐和水溶性锆盐的总含量:其氧化铝和水合氧化铝的总含量。

根据本发明,提供喷墨记录介质,其在改善墨吸收性、显色性和耐泛金光性的同时,抑制辊痕的产生和弯曲开裂的产生。

由以下对示例性实施方案的说明,本发明进一步的特征将变得清楚。

具体实施方式

以下对本发明的详细情况进行说明。

<喷墨记录介质>

本发明的喷墨记录介质具有支持基材和设置在其上的至少两个墨接受层。该至少两个墨接受层中的两个墨接受层中,一个墨接受层(下层)与该支持基材接近,另一个墨接受层(上层)远离该支持基材。这两个墨接受层均为具有至少0.1g/m2以上的干燥涂布量的层。在该上层上,例如,为了光泽控制等,也可设置本发明没有规定的最上层,其具有小于0.1g/m2的涂布量。最上层优选为包括,例如,颗粒,例如气相法二氧化硅、胶体二氧化硅、其他无机细颗粒、或有机细颗粒,亲水性粘结剂,交联剂和活化剂的层。尽管可将该下层直接设置在该支持基材上,例如,为了改善粘合性、墨固着性等,可在该下层和该支持基材之间设置本发明没有规定的另一层(预涂层)。对该预涂层并无特别限制,并且可使用具有已知组成的层。

尽管后述,本发明的两个墨接受层均含有选自氧化铝和水合氧化铝中的至少一种、聚(乙烯醇)、选自硼酸和硼酸盐中的至少一种和水溶性锆化合物。另一方面,这两个墨接受层以外的墨接受层均不含有选自氧化铝和水合氧化铝中的至少一种、聚(乙烯醇)、选自硼酸和硼酸盐中的至少一种和水溶性锆化合物的全部。此外,本发明的喷墨记录介质可在该支持基材的两个表面上具有墨接受层。

<支持基材>

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社,未经佳能株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110098408.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top