[发明专利]二次排泥直立斜板沉淀池无效

专利信息
申请号: 201110101806.6 申请日: 2011-04-22
公开(公告)号: CN102151423A 公开(公告)日: 2011-08-17
发明(设计)人: 李莉;倪丁凡;曾江涛;陆晶 申请(专利权)人: 武汉大学
主分类号: B01D21/04 分类号: B01D21/04;C02F1/00
代理公司: 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 代理人: 张火春
地址: 430072 湖*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 二次 直立 沉淀
【说明书】:

技术领域

本发明属于水处理技术领域,尤其涉及一种斜板沉淀池。

背景技术

现有的斜板沉淀池,由于斜板之间的水流为层流状态,水力半径小,Re值低,而Fr高,水力条件好,因此更利于沉淀分离。高效率的沉淀又可为工程节约大量建设用地。斜板沉淀池可分为上向流、下向流和侧向流三种形式,工程上应用较成功的是上向流斜板沉淀池。

虽然上向斜板沉淀池有着诸多优点,大大提高了沉淀效能,但在工程实际应用中仍然存在着一些问题:

1、污泥的排出不够方便,无法大规模地安装刮泥机,排泥效果不够理想。

2、斜管(板)中易储存污泥,尤其是顶部会有大量积泥滞留,随运行时间

的加长,容易造成堵塞现象。

3、沉淀池内易滋生藻类,堵塞出水孔,使净水效果降低。

鉴于上述问题,申请人发明了“一种斜管沉淀池”(专利申请号:2011200161293),该专利申请的技术方案包括设置在池底的吸刮泥装置,吸刮泥装置包括刮泥机和吸泥管,吸刮泥装置上方设有多个集水槽,集水槽两侧均设置多排倾斜的斜管,斜管底部设有配水管,斜管上部形成清水区,清水区内设有出水管,斜管上部设有振动清洗装置。其集水槽上部和端部设有钢板。其斜管倾斜的角度大于或者等于60度。该专利申请取得的技术效果是:结构简单,净化效果好,排淤泥方便;通过集水槽上部和端部钢板的设置,可以防止滋生藻类,堵塞出水孔,使净水效果降低。但是该专利申请也存在下列问题有待解决:

1、清水区内沉淀的少量淤泥,其泥沙起动时容易使得清水再度浑浊。

2、斜管底部设置的进配水管的结构为中间开孔透水,其配水不均匀,水位升高时容易产生涡流,使得已经沉降的污泥再次浮起,大大影响了沉淀的效果。

3、其振动清洗装置为简易发射装置,清洗效果不理想。

发明内容

本发明的目的就是针对上述斜管沉淀池所存在的不足而提供一种净化效果好、使用方便且使用寿命长的一种二次排泥直立斜板沉淀池。

本发明由沉淀区和密闭的清水区所构成。清水区和沉淀区通过溢流壁相间隔。所述的沉淀区:其底部设置有包括刮泥机和吸泥管的吸刮泥装置;其位于吸刮泥装置的上方,通过溢流壁和池壁固接有相互平行且倾斜角度 60度的直立斜板、且在其池壁上固接有呈斜直线形均匀排列的超声换能器装置;其位于吸刮泥装置和直立斜板之间设置有进水管。所述的清水区:其底部设置有吸泥管,且该吸泥管与沉淀区中的吸刮泥装置上的吸泥管相连通;其位于吸泥管的上方设置有出水管。

为了提高污泥沉淀能力,本发明进一步可由两组以上相互间隔的沉淀区和清水区所构成,且其中的进水管、出水管和吸泥管分别相互连通。

本发明的工作过程是:

浑水通过进水管平向进入池中的沉淀区,随着水的增多,水位逐渐上升,缓缓通过其直立斜板,并在沉淀区内随着时间的推移而逐渐沉降,实现泥水分离,污泥通过直立斜板面下滑到沉淀区的底部,沉淀区上部经过沉淀后的清水通过溢流壁溢流进入清水区,并通过清水区下部设置的出水管将清水导出沉淀池,完成沉淀过程。

沉淀区下部在沉淀过程中沉下的淤泥,被其底部设置的吸刮泥机吸、刮出并排走。清水区内沉淀的少量淤泥,由清水区底部设置的吸泥管吸出,达到了二次排泥的效果,避免泥沙起动使得清水再度浑浊。

当沉淀区中的直立斜板积泥过多时,可直接开启沉淀区池壁上固接的呈斜直线形均匀排列的超声换能器装置对其直立斜板进行清洗,而不必放空沉淀池。

本发明的有益效果是:

1、沉淀区中的大块斜板结构,可增加水流与斜板沉淀区的接触面积,使得水中的悬浮物在斜板的阻隔下能充分沉降。

2、清水区底部设置的吸泥管与整体的排泥管道相连,可集中将污泥导出,避免了清水区中的清水被二次污染,大大提高了沉淀效能。

3、进水管道直接通水,彻底解决了之前装置出现的配水均匀性问题,使得进水通畅,避免了水位升高时涡流的产生,从而防止了已经沉降的污泥再次浮起,使沉淀效果有了根本性的改善。

4、清洗装置为呈斜直线形均匀排列的超声波换能器装置,当其在细泥沙淤紧之前开启,可确保清洗的效果。

5、沉淀区仅上部通过斜板隔断,其下部为敞开结构,便于浑水的流动,既有效地降低了水流在沉淀区中的上升速度,促进悬浮物质的沉降,又减少了水流对材料的挤压作用,延长了设备的使用寿命。

附图说明

附图为本发明的整体示意图。其中:附图1为正面图,附图2为背面图。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉大学,未经武汉大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110101806.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top