[发明专利]稳压电路无效

专利信息
申请号: 201110103118.3 申请日: 2011-04-22
公开(公告)号: CN102298408A 公开(公告)日: 2011-12-28
发明(设计)人: 段新东 申请(专利权)人: 上海宏力半导体制造有限公司
主分类号: G05F1/56 分类号: G05F1/56
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 骆苏华
地址: 201203 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 稳压 电路
【说明书】:

技术领域

发明涉及半导体技术领域,尤其涉及一种用于CMOS的稳压电路。

背景技术

互补金属氧化物半导体(Complementary Metal Oxide Semiconductor,CMOS)具有功耗低、抗干扰能力强等的优点,其广泛地应用于大规模集成电路芯片制造。

参考图1示出了应用于CMOS的稳压电路,所述稳压电路包括:运算放大器12、连接于运算放大器12输出端OPout的PMOS管10,具体地,所述PMOS管的栅极连接于运算放大器12的输出端OPout,所述PMOS管的源极连接于电源13,所述PMOS管的漏极连接于电阻11,所述电阻11连接于运算放大器12的输入端。

参考图2,示出了图1所示稳压电路的电压示意图,图中点线表示图1中PMOS管源极的电压,实线表示图1中运算放大器12输出端OPout的电压,具体地,电源电压向PMOS管10提供的电压为5V,因此,所述PMOS管10的源极电压很快升至5V,最快会达到5V/μs,与此同时,由于运算放大器输出信号建立时间比较慢,因此在电源向运算放大器12供电初期,运算放大器12输出端OPout的电压较低,由于运算放大器12输出端OPout连接于PMOS管10的栅极,相应地,PMOS管10的栅极在供电初期的电压也较低,这使PMOS管10的栅极和源极间有较大的电压,以图中同一时间点的A、B点为例,A点的电压为5V,而B点的电压为0.537V,AB点之间的电压为4.463V,也就是说PMOS管10的栅极和源极之间的电压为4.463V,但是本实施中,PMOS管10的额定工作电压为3.3V,栅、源极之间的电压大于额定工作电压会使PMOS管10的可靠性下降。

发明内容

本发明解决的问题是提供一种可靠性较高的稳压电路。

为解决上述问题,本发明提供一种稳压电路,依次包括电源,源极与所述电源相连的第一PMOS管,连接于第一PMOS管漏极的反馈电阻,一输入端连接于所述反馈电阻、输出端连接于第一PMOS管栅极的运算放大器,还包括连接于所述第一PMOS管源极和栅极的负载,在电源供电初期,所述负载上的电压大于或等于第一PMOS管的阈值电压,并且小于或等于第一PMOS管的额定工作电压。

所述负载为一个或者多个串联的MOS管或二极管。

所述负载包括多个串联的负载PMOS管,各负载PMOS管的栅极和漏极之间相连,多个负载PMOS管依次源极和漏极相连,与所述第一PMOS管源极相连的为第一个负载PMOS管的源极,与所述第一PMOS管漏极相连的为第末个负载PMOS管的漏极。

所述负载包括多个串联的负载NMOS管,各负载NMOS管的栅极和漏极之间相连,多个负载NMOS管依次源极和漏极相连,与所述第一PMOS管源极相连的为第一个负载NMOS管的漏极,与所述第一PMOS管漏极相连的第末个负载NMOS管的源极。

所述电源的电压与运算放大器输出端高电平的差小于所述多个MOS管或二极管的阈值电压之和。

所述电源电压与运算放大器输出端高电平的差大于或等于所述第一PMOS管的阈值电压。

所述电源电压为5V,第一PMOS管的额定工作电压为3.3V,阈值电压为0.6~0.8V。

所述负载为3个串联的负载PMOS管,各负载PMOS管的阈值电压为0.6~0.8V。

所述负载为4个串联的负载PMOS管,各负载PMOS管的阈值电压为0.6~0.8V。

各负载PMOS管的阈值电压相等。

与现有技术相比,本发明具有以下优点:连接于第一PMOS管源极和漏极之间的负载,可以钳制运算放大器输出端的电压,避免了第一PMOS管的栅极和源极之间电压较大的问题,提高了稳压电路的可靠性。

附图说明

图1是现有技术稳压电路一实施例的示意图;

图2是图1所示稳压电路的电压示意图;

图3是本发明稳压电路一实施例的示意图;

图4是图3所示稳压电路的电压示意图。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。

在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明,但是本发明还可以采用其他不同于在此描述的其它方式来实施,因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海宏力半导体制造有限公司,未经上海宏力半导体制造有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110103118.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top