[发明专利]自调节谐振腔及具有该谐振腔的再生激光放大器无效

专利信息
申请号: 201110103841.1 申请日: 2011-04-25
公开(公告)号: CN102570261A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 樊仲维;闫莹 申请(专利权)人: 北京国科世纪激光技术有限公司
主分类号: H01S3/086 分类号: H01S3/086
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100192 北京市海淀区西小*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 调节 谐振腔 具有 再生 激光 放大器
【说明书】:

技术领域

发明涉及激光技术领域,特别涉及一种自调节谐振腔及具有该谐振腔的再生激光放大器。

背景技术

谐振器是激光器的必要组成部分,其通常包括:两个分别位于谐振腔光路两端的端谐振腔镜、一个位于两个端谐振腔镜光路之间的增益介质以及至少一个位于两个端谐振腔镜光路之间的反射腔镜。根据增益介质在谐振腔中所处的位置,将谐振腔分为两类,第一类为增益介质设置在靠近其中一个端谐振腔镜的光路中,第二类为增益介质设置在两个反射腔镜光路之间。现有技术中针对第一类谐振腔的调节通常都需要借助外部的氦氖激光器来调节,在一些条件不充分的外场,很难获得氦氖激光器,所以不能随时进行调节,使谐振腔调节受到很多使用场合的限制。

发明内容

本发明要解决的第一个技术问题是提供一种自调节谐振腔,其无需借助外部激光器即可准确快速地调整谐振腔中各腔镜的位置,避免了使用场合的限制,提高了使用便利性。

本发明要解决的第二个技术问题是提供一种再生激光放大器,其无需借助外部激光器即可准确快速地调整再生激光放大器中的各腔镜位置,避免了使用场合的限制,提高了使用便利性。

为解决上述第一个技术问题,本发明提供一种自调节谐振腔,包括:一个第一端谐振腔镜、一个增益介质、至少一个反射腔镜以及一个第二端谐振腔镜,所述第一端谐振腔镜和所述第二端谐振腔镜分别设置在所述谐振腔的光路两端,所述增益介质设置在所述第一、第二端谐振腔镜的光路之间并靠近所述第一端谐振腔镜,所述反射腔镜设置在所述增益介质与所述第二端谐振腔镜光路之间。该谐振腔还包括:一个具有部分光透过率的信号光输出镜,所述信号光输出镜可分离地设置在谐振腔内所述增益介质与所述反射腔镜之间,且所述信号光输出镜、所述增益介质和所述第一端谐振腔镜位于同一光轴上。

所述自调节谐振腔进一步包括一个联动装置,所述的信号光输出镜在所述联动装置的作用下移进或移出所述谐振腔。

进一步地,所述信号光输出镜移进所述谐振腔内时,其与所述第一端谐振腔镜以及所述增益介质形成基准光谐振腔,外部泵浦光经过所述第一端谐振腔镜进入所述基准光谐振腔产生振荡,由所述信号光输出镜输出基准激光到所述反射腔镜。

进一步地,所述增益介质为Nd:YVO4晶体。

进一步地,所述反射腔镜为多个,且多个反射腔镜形成的光路使光线在谐振腔中经多次折转。

进一步地,所述反射腔镜为平面反射镜片。

为解决上述第二个技术问题,本发明提供一种再生激光放大器,包括:一个第一偏振片、一个第一波片、一个电光晶体、一个法拉第磁光隔离器、一个第二偏振片、一个第二波片以及一个种子源,所述第一波片和所述法拉第磁光隔离器分别设置在所述第一偏振片的光路两侧,所述电光晶体设置在所述第一波片的远离所述第一偏振片的光路一侧,所述第二波片设置在所述法拉第磁光隔离器的远离所述第一偏振片的光路一侧,所述第二偏振片设置在所述第二波片的远离所述法拉第磁光隔离器的光路一侧,所述种子源设置在所述第二偏振片的远离所述第二波片的光路一侧。所述再生激光放大器还包括上述谐振腔,且所述第一偏振片、所述第一波片和所述电光晶体均设置在所述谐振腔光路中并位于所述第二端谐振腔镜与最靠近所述第二端谐振腔镜的反射腔镜的光路之间。

进一步地,所述第一波片为1/4波片。

进一步地,所述第二波片为1/2波片。

进一步地,所述电光晶体为BBO电光晶体。

本发明的有益技术效果在于:

本发明谐振腔中可拆卸地设置有一信号光输出镜,该信号光输出镜在谐振腔需要调节时放入谐振腔中,与谐振腔内的端谐振腔镜和增益介质一起组成一个基准光谐振腔,该基准光谐振腔在泵浦光的作用下输出一束基准激光,利用该基准激光来调节腔镜,使得谐振腔无需借助外部的氦氖激光器即可实现其自身调节,从而避免了使用场合的限制,提高了使用便利性。

附图说明

图1为本发明的自调节谐振腔的调节状态的结构示意图(图中实心箭头和空心箭头分别表示往、返光线的方向);

图2为图1所示谐振腔应用在端面泵浦Nd:YVO4再生激光放大器上的结构示意图(图中实心箭头和空心箭头分别表示往、返光线的方向)。

具体实施方式

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京国科世纪激光技术有限公司,未经北京国科世纪激光技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110103841.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top