[发明专利]一种中子屏蔽材料及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201110105735.7 申请日: 2011-04-26
公开(公告)号: CN102214490A 公开(公告)日: 2011-10-12
发明(设计)人: 李航;邹宇斌;温伟伟;王胜;唐国有 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: G21F1/02 分类号: G21F1/02;B28B1/14
代理公司: 北京君尚知识产权代理事务所(普通合伙) 11200 代理人: 陈美章
地址: 100871*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 中子 屏蔽 材料 及其 制作方法
【说明书】:

技术领域

发明属于中子防护领域,涉及一种中子屏蔽材料及其制作方法,针对从快中子到热中子的宽能区中子屏蔽。

背景技术

中子是组成原子核的核子之一,不带电荷,在与物质发生相互作用时不受原子电场的影响,而直接与原子核发生相互作用,故其与X射线、γ射线相比具有更强的穿透性。中子在核能、核武器、材料探伤、测井、活化分析等方面都有着巨大的作用,在国防、工业生产中都占有重要的地位。但是由于中子的强穿透性,使其对人体、环境、仪器设备等产生很强的辐射损伤,威胁生命安全和仪器的正常工作,所以对中子进行良好地屏蔽是使中子正常为人类服务的必要手段。

对中子的屏蔽一般通过轻元素慢化快中子至较低能量,再使用硼、锂、镉等材料进行吸收,以达到减低屏蔽体外中子剂量至安全水平的目的。传统的中子屏蔽材料包括含硼聚乙烯(参考文献:朱广宁等.西安脉冲堆中子照相屏蔽体.原子能科学技术,Vol.40,No.5sep.2006)、含硼水泥、钨合金(参考文献:吴文圣.中子γ测井仪的中子屏蔽研究.核电子学与探测技术,Vol.24,No.1 Jan.2004)等,新开发的如硼氢化锆(Zr(BH4)4)和氢化锆(ZrH2)(参考文献:T.Hayashi,Journal of Nuclear Materials 386-388(2009)119-121)等,这些材料对中子有较好的屏蔽效果,但存在成本高、成型速度慢、工艺复杂等问题。随着中子应用的发展,不同场合对中子屏蔽材料提出了不同的要求。

发明内容

本发明的目的是提供一种中子屏蔽材料及其制作方法,主要针对小型加速器中子源、同位素中子源等;综合成本和屏蔽效果,本发明能够对现有的中子屏蔽材料起到很好的补充作用,传统的屏蔽材料加工周期较长,本发明由于较快的成型速度能够应对突发情况,如核泄漏的前期封堵;在屏蔽材料体积不是主要考虑因素的情况下,本发明可以作为含硼聚乙烯的替代品,大大降低屏蔽成本;本发明同时提供该屏蔽材料的制备方法。

本发明的技术方案为:

一种中子屏蔽材料,其特征在于包括硼砂、水玻璃、氟硅酸钠;其中,所述硼砂、水玻璃、氟硅酸钠的重量份数的配比为100∶m∶n;m取值为50~70,n取值为5~15。

一种中子屏蔽材料的制作方法,其步骤为:

1)取设定份数硼砂、氟硅酸钠混合物和水玻璃;其中,所述硼砂、水玻璃、氟硅酸钠的重量份数的配比为100∶m∶n;m取值为50~70,n取值为5~15;

2)将水玻璃加水稀释后,加入到硼砂和氟硅酸钠混合物中搅拌均匀;

3)将搅拌均匀的混合物加入压制模具中,挤压成型后脱模。

进一步的,所述水玻璃与水按照1∶10~1∶15的重量份数的配比进行稀释。

进一步的,所述水玻璃与水按照1∶10的重量份数的配比进行稀释。

进一步的,所述硼砂、水玻璃、氟硅酸钠的重量份数的配比为100∶60∶6。

本发明针对中子的特征,屏蔽材料中应富含中子减速剂和吸收剂,故本发明的材料包括硼砂、水玻璃和少量氟硅酸钠固化剂。所述的屏蔽材料为硼砂、水玻璃、氟硅酸钠按照100∶m∶n的重量份数的配比进行混合,其中水玻璃的份数在50份到70份可调,份数越少,粘合能力越差,机械强度差,反之粘合能力越强,机械强度大,但是硼砂相对含量下降,影响热中子吸收;固化剂的份数在5到15份可调整,影响材料的成型速度。硼砂和水玻璃为常用的化工和建筑材料,来源广泛,成本低,操作简便。使用时根据需要选择水玻璃和固化剂的配比,对于机械强度要求高的场合适当提高水玻璃和固化剂的份数。成型材料中含有大量结晶水和自由水,对快中子有较好的减速能力(硼砂为Na2B4O7·10H2O,含有大量的结晶水;水玻璃固化提供自由水和部分结晶水,硼砂和水玻璃中的氢元素都能对快中子起到很好的慢化作用);硼砂中的硼元素对减速后的热中子有极强的吸收能力。本发明的材料对中子的屏蔽略逊于含硼聚乙烯,但是在价格和加工难度上都比含硼聚乙烯有优势。

与现有技术相比,本发明的积极效果为:

本发明的有益之处在于所提供的材料具有较好的中子屏蔽能力,并有一定的机械强度,成型速度随固化剂量在一定范围内可控,工艺简单,成本低廉。

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