[发明专利]光源单元、光学扫描装置和成像设备有效
申请号: | 201110106201.6 | 申请日: | 2011-04-27 |
公开(公告)号: | CN102248806A | 公开(公告)日: | 2011-11-23 |
发明(设计)人: | 大场义浩;菅原悟;石井稔浩 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
主分类号: | B41J2/455 | 分类号: | B41J2/455;G02B26/12 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 王冉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光源 单元 光学 扫描 装置 成像 设备 | ||
1.一种光源单元,包括:
表面发射激光器阵列,该表面发射激光器阵列包括发光单元;以及
孔径元件,该孔径元件设置在从所述表面发射激光器阵列发出的光束的光路上,且该孔径元件包括孔径,其中:
在至少一个方向上,由穿过所述孔径的光束所造成的干涉图案的强度分布包括相等数量的波峰和波谷。
2.如权利要求1所述的光源单元,其中:
在包括表面发射激光器阵列的发光区域的平面上所述孔径的正交投影在所述一个方向上的长度基本上是λL/d的整数倍,其中λ是表面发射激光器阵列的振荡波长,d是在所述一个方向上所述发光单元之间的间隔,而L是从所述孔径的中心到所述平面延伸的垂直线的长度。
3.如权利要求1所述的光源单元,还包括:
准直透镜,该准直透镜使得从表面发射激光器阵列发出的光束变成平行光束,所述准直透镜设置在所述表面发射激光器阵列和所述孔径元件之间,其中:
在包括所述表面发射激光器阵列的发光区域的平面上所述孔径的正交投影在所述一个方向上的长度基本上是λL/d的整数倍,其中λ是表面发射激光器阵列的振荡波长,d是在所述一个方向上所述发光单元之间的间隔,而L是从所述准直透镜的中心到所述平面延伸的垂直线的长度。
4.如权利要求1所述的光源单元,其中:
在包括所述表面发射激光器阵列的发光区域的平面上所述孔径的正交投影是矩形形状,包括长度R1的短边和长度R2的长边,长边相对于所述一个方向倾斜一倾斜角θ,且
R1·sinθ和R2·cosθ中的至少一个基本上是λL/d的整数倍,其中λ是表面发射激光器阵列的振荡波长,d是在所述一个方向上所述发光单元之间的间隔,而L是从所述孔径的中心到所述平面延伸的垂直线的长度。
5.如权利要求1所述的光源单元,还包括:
准直透镜,该准直透镜使得从表面发射激光器阵列发出的光束变成平行光束,所述准直透镜设置在所述表面发射激光器阵列和所述孔径元件之间,其中
在包括所述表面发射激光器阵列的发光区域的平面上所述孔径的正交投影是矩形形状,包括长度R1的短边和长度R2的长边,所述长边相对于所述一个方向倾斜一倾斜角θ,且
R1·sinθ和R2·cosθ中的至少一个基本上是λL/d的整数倍,其中λ是表面发射激光器阵列的振荡波长,d是在所述一个方向上所述发光单元之间的间隔,而L是从所述准直透镜的中心到所述平面延伸的垂直线的长度。
6.如权利要求2所述的光源单元,其中:
所述发光单元沿着作为所述一个方向的第一方向和与所述第一方向相交的第二方向二维排列;且
在所述平面上所述孔径的正交投影在所述第二方向上的长度基本上是λL/d2的整数倍,其中,所述d2是在所述第二方向上发光单元之间的间隔。
7.如权利要求2所述的光源单元,其中:
所述发光单元沿着作为所述一个方向的第一方向和与所述第一方向相交的第二方向二维排列;
在所述第二方向上所述发光单元之间的间隔不等;且
在所述平面上所述孔径的正交投影在所述第二方向上的长度是在λL/d21×n和λL/d21×n之间的值,其中,所述d21是发光单元之间的第一间隔,且所述d22是发光单元之间的第二间隔,且n是整数。
8.如权利要求6所述的光源单元,其中:
所述第一方向和第二方向彼此正交。
9.如权利要求6所述的光源单元,其中:
所述第一方向和第二方向彼此不正交。
10.如权利要求3所述的光源单元,其中:
所述孔径元件相对于所述平面是倾斜的或者弯曲的。
11.如权利要求1所述的光源单元,其中:
所述孔径元件包括多个孔径板。
12.如权利要求1所述的光源单元,其中:
孔径元件平行于所述一个方向的至少一部分固定到支撑元件上,所述支撑元件用于将所述孔径元件固定到包括表面发射激光器阵列的发光区域的平面上。
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